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光源装置、图像投射装置以及光源光学系统
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202111329870.X
申请日
:
2021-11-10
公开(公告)号
:
CN114563907B
公开(公告)日
:
2025-04-04
发明(设计)人
:
高野洋平
藤田和弘
平川真
今井重明
申请人
:
株式会社理光
申请人地址
:
日本东京都
IPC主分类号
:
G03B21/20
IPC分类号
:
G02B27/14
G02B27/09
代理机构
:
北京市柳沈律师事务所 11105
代理人
:
韩锋
法律状态
:
授权
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2025-04-04
授权
授权
共 50 条
[1]
光源装置、图像投射装置以及光源光学系统
[P].
高野洋平
论文数:
0
引用数:
0
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0
高野洋平
;
藤田和弘
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0
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藤田和弘
;
平川真
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0
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平川真
;
今井重明
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0
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0
今井重明
.
中国专利
:CN114563907A
,2022-05-31
[2]
光源光学系统、光源装置、图像投影装置
[P].
高野洋平
论文数:
0
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0
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0
高野洋平
.
中国专利
:CN113687568A
,2021-11-23
[3]
光源光学系统,光源单元,光源装置以及图像显示装置
[P].
平川真
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0
平川真
;
高野洋平
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高野洋平
;
中村果澄
论文数:
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中村果澄
.
中国专利
:CN114563906A
,2022-05-31
[4]
光源装置以及光学系统
[P].
郭祖强
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0
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机构:
深圳光峰科技股份有限公司
深圳光峰科技股份有限公司
郭祖强
;
杨炳柯
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机构:
深圳光峰科技股份有限公司
深圳光峰科技股份有限公司
杨炳柯
;
郭威
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机构:
深圳光峰科技股份有限公司
深圳光峰科技股份有限公司
郭威
;
古志雄
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机构:
深圳光峰科技股份有限公司
深圳光峰科技股份有限公司
古志雄
;
论文数:
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机构:
李屹
.
中国专利
:CN121184771A
,2025-12-23
[5]
光源光学系统,光源单元,光源装置以及图像显示装置
[P].
平川真
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机构:
株式会社理光
株式会社理光
平川真
;
高野洋平
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机构:
株式会社理光
株式会社理光
高野洋平
;
中村果澄
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机构:
株式会社理光
株式会社理光
中村果澄
.
日本专利
:CN114563906B
,2024-03-01
[6]
投射光学系统以及图像投射装置
[P].
内田恒夫
论文数:
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0
内田恒夫
;
山田克
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山田克
.
中国专利
:CN108027498A
,2018-05-11
[7]
光源光学系统、光源装置及图像投影装置
[P].
高野洋平
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高野洋平
;
高桥达也
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高桥达也
;
中村果澄
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0
中村果澄
.
中国专利
:CN111708247B
,2020-09-25
[8]
光源装置、图像投影装置和光源光学系统
[P].
藤田和弘
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藤田和弘
;
中村果澄
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中村果澄
;
高野洋平
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高野洋平
.
中国专利
:CN114585968A
,2022-06-03
[9]
光源光学系统,光源装置和图像投影装置
[P].
高野洋平
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0
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0
高野洋平
;
中村直树
论文数:
0
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0
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0
中村直树
.
中国专利
:CN113168082B
,2021-07-23
[10]
光源装置、图像投影装置和光源光学系统
[P].
藤田和弘
论文数:
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机构:
株式会社理光
株式会社理光
藤田和弘
;
中村果澄
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0
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机构:
株式会社理光
株式会社理光
中村果澄
;
高野洋平
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0
机构:
株式会社理光
株式会社理光
高野洋平
.
日本专利
:CN114585968B
,2025-06-27
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