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光学系统及投射曝光设备

被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN202280055605.3
申请日：
2022-07-05
公开(公告)号：
CN117836719A
公开(公告)日：
2024-04-05
发明(设计)人：
B·普尼尼
申请人：
卡尔蔡司SMT有限责任公司
申请人地址：
德国上科亨
IPC主分类号：
G03F7/20
IPC分类号：
G02B7/00
代理机构：
北京市柳沈律师事务所 11105
代理人：
王蕊瑞
法律状态：
实质审查的生效
国省代码：
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法律状态
法律状态公告日 法律状态 法律状态信息
2024-09-06 实质审查的生效 实质审查的生效IPC(主分类):G03F 7/20申请日:20220705
2024-04-05 公开 公开
共 50 条
[1]
光学组件、光学系统及投射曝光设备 [P]. 
R·奥尔利克 .
德国专利 :CN120693554A ,2025-09-23
[2]
光学组件、光学系统及投射曝光设备 [P]. 
R·格洛里安 .
德国专利 :CN119907946A ,2025-04-29
[3]
投射曝光设备的光学系统 [P]. 
M.帕特拉 .
德国专利 :CN111427239B ,2024-09-17
[4]
光学系统和投射曝光设备 [P]. 
M·施温克 .
德国专利 :CN120322731A ,2025-07-15
[5]
投射曝光设备的光学系统 [P]. 
M.帕特拉 .
中国专利 :CN111427239A ,2020-07-17
[6]
投射光学单元、光学系统以及投射曝光设备 [P]. 
M.施瓦布 .
中国专利 :CN111708256A ,2020-09-25
[7]
投射光学单元、光学系统以及投射曝光设备 [P]. 
M.施瓦布 .
德国专利 :CN111708256B ,2024-06-25
[8]
双脚架、光学系统及投射曝光设备 [P]. 
S·A·毕西 ;
T·赫格尔 ;
D·杜尔 .
德国专利 :CN119907950A ,2025-04-29
[9]
成像光学系统和投射曝光设备 [P]. 
汉斯-于尔根.曼 ;
威廉.乌尔里克 ;
斯蒂芬.马伦德 ;
哈特穆特.恩基希 .
中国专利 :CN102749810A ,2012-10-24
[10]
成像光学系统和投射曝光设备 [P]. 
汉斯-于尔根·曼 ;
威廉·乌尔里克 ;
斯蒂芬·马伦德 ;
哈特穆特·恩基希 .
中国专利 :CN101836165B ,2010-09-15
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