一种用于X射线关键尺寸测量的纳米结构散射场计算方法

被引：0

申请号：

CN202210272322.6

申请日：

2022-03-18

公开(公告)号：

CN114593700B

公开(公告)日：

2022-06-07

发明(设计)人：

陈修国张家豪杨天娟马健源刘世元

申请人：

申请人地址：

430074 湖北省武汉市洪山区珞喻路1037号

IPC主分类号：

G01B1500

IPC分类号：

G01B1504 G06F1714 G06F1718

代理机构：

华中科技大学专利中心 42201

代理人：

尹丽媛

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2022-06-24	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):G01B 15/00 申请日:20220318
2022-06-07	公开	公开
2023-01-24	授权	授权

共 50 条

[1]

一种电大尺寸散射体散射场计算方法 [P].

李冰 ;

李尧尧 ;

郑建东 .

中国专利 :CN120974563A ,2025-11-18

[2]

基于小角X射线散射技术的关键尺寸测量系统及测量方法 [P].

杨春明 ;

周平 ;

边风刚 .

中国专利 :CN113624168A ,2021-11-09

[3]

一种纳米结构的X射线散射光谱的快速获取方法及系统 [P].

刘世元 ;

邓定选 ;

陈修国 ;

张家豪 ;

钟海硕 ;

周维刚 .

中国专利 :CN120721029A ,2025-09-30

[4]

一种单程波散射场计算方法 [P].

孟祥羽 ;

李庆洋 ;

国运东 ;

曹茸 ;

余海波 ;

何维 .

中国专利 :CN120577868A ,2025-09-02

[5]

一种纳米结构三维形貌小角X射线散射测量方法及装置 [P].

刘世元 ;

陈修国 ;

杨天娟 ;

马健源 ;

刘章勇 ;

张家豪 .

中国专利 :CN114608494B ,2022-06-10

[6]

一种基于光散射的晶圆表面颗粒缺陷的散射场计算方法 [P].

廖程 ;

许爽 ;

李公法 ;

刘超 ;

马如意 ;

廖尚春 .

中国专利 :CN110990754B ,2024-03-22

[7]

一种基于光散射的晶圆表面颗粒缺陷的散射场计算方法 [P].

廖程 ;

许爽 ;

李公法 ;

刘超 ;

马如意 ;

廖尚春 .

中国专利 :CN110990754A ,2020-04-10

[8]

一种X射线数字成像缺陷尺寸测量方法 [P].

王从科 ;

董方旭 ;

赵付宝 ;

凡丽梅 ;

张霞 ;

郑素萍 .

中国专利 :CN109187597B ,2019-01-11

[9]

用于光学关键尺寸测量的方法及装置 [P].

王鑫 ;

施耀明 ;

张振生 ;

徐益平 .

中国专利 :CN105444666A ,2016-03-30

[10]

一种金属介质混合结构的全空间散射场计算方法及装置 [P].

黄少德 ;

周建华 ;

张捷俊 .

中国专利 :CN115455881A ,2022-12-09

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