偏光膜、偏光板和该偏光膜的制造方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202080046221.6

申请日：

2020-05-11

公开(公告)号：

CN114026471A

公开(公告)日：

2022-02-08

发明(设计)人：

岛津亮后藤周作森崎真由美

申请人：

申请人地址：

日本大阪府

IPC主分类号：

G02B530

IPC分类号：

B29C5506

代理机构：

北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277

代理人：

刘新宇;李茂家

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2022-06-17	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):G02B 5/30 申请日:20200511
2022-02-08	公开	公开

共 50 条

[1]

偏光膜、偏光板和该偏光膜的制造方法 [P].

岛津亮 ;

后藤周作 ;

森崎真由美 .

中国专利 :CN114026474A ,2022-02-08

[2]

偏光膜、偏光板和该偏光膜的制造方法 [P].

岛津亮 ;

后藤周作 ;

森崎真由美 .

日本专利 :CN118769524A ,2024-10-15

[3]

偏光膜、偏光板以及该偏光膜的制造方法 [P].

森崎真由美 ;

后藤周作 ;

岛津亮 .

日本专利 :CN118915221A ,2024-11-08

[4]

偏光膜、偏光板、及该偏光膜的制造方法 [P].

黑原薫 ;

后藤周作 ;

南川善则 ;

森崎真由美 .

日本专利 :CN113508316B ,2024-09-17

[5]

偏光膜、偏光板、及该偏光膜的制造方法 [P].

黑原薫 ;

后藤周作 ;

南川善则 ;

森崎真由美 .

中国专利 :CN113508316A ,2021-10-15

[6]

偏光膜、偏光板以及该偏光膜的制造方法 [P].

森崎真由美 ;

后藤周作 ;

岛津亮 .

中国专利 :CN113614588A ,2021-11-05

[7]

偏光膜、偏光板、及该偏光膜的制造方法 [P].

岛津亮 ;

后藤周作 ;

森崎真由美 .

日本专利 :CN113646676B ,2024-07-23

[8]

偏光膜、偏光板、及该偏光膜的制造方法 [P].

岛津亮 ;

后藤周作 ;

森崎真由美 .

中国专利 :CN113646676A ,2021-11-12

[9]

偏光膜、偏光板及该偏光膜的制造方法 [P].

高永幸佑 ;

滨本大介 ;

上条卓史 .

中国专利 :CN113646677A ,2021-11-12

[10]

偏光膜、偏光板及该偏光膜的制造方法 [P].

高永幸佑 ;

后藤周作 ;

滨本大介 .

日本专利 :CN113994243B ,2024-08-27

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