偏光膜、偏光板及该偏光膜的制造方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202080025691.4

申请日：

2020-03-24

公开(公告)号：

CN113646677A

公开(公告)日：

2021-11-12

发明(设计)人：

高永幸佑滨本大介上条卓史

申请人：

申请人地址：

日本大阪府

IPC主分类号：

G02B530

IPC分类号：

B29C5506 G02F11335 B29K2900 B29L900

代理机构：

北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277

代理人：

刘新宇;李茂家

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2021-11-12	公开	公开
2021-12-17	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):G02B 5/30 申请日:20200324

共 50 条

[1]

偏光膜、偏光板、及该偏光膜的制造方法 [P].

黑原薫 ;

后藤周作 ;

南川善则 ;

森崎真由美 .

日本专利 :CN113508316B ,2024-09-17

[2]

偏光膜、偏光板、及该偏光膜的制造方法 [P].

黑原薫 ;

后藤周作 ;

南川善则 ;

森崎真由美 .

中国专利 :CN113508316A ,2021-10-15

[3]

偏光膜、偏光板、及该偏光膜的制造方法 [P].

岛津亮 ;

后藤周作 ;

森崎真由美 .

日本专利 :CN113646676B ,2024-07-23

[4]

偏光膜、偏光板、及该偏光膜的制造方法 [P].

岛津亮 ;

后藤周作 ;

森崎真由美 .

中国专利 :CN113646676A ,2021-11-12

[5]

偏光膜、偏光板和该偏光膜的制造方法 [P].

岛津亮 ;

后藤周作 ;

森崎真由美 .

中国专利 :CN114026474A ,2022-02-08

[6]

偏光膜、偏光板以及该偏光膜的制造方法 [P].

森崎真由美 ;

后藤周作 ;

岛津亮 .

日本专利 :CN118915221A ,2024-11-08

[7]

偏光膜、偏光板以及该偏光膜的制造方法 [P].

森崎真由美 ;

后藤周作 ;

岛津亮 .

中国专利 :CN113614588A ,2021-11-05

[8]

偏光膜、偏光板和该偏光膜的制造方法 [P].

岛津亮 ;

后藤周作 ;

森崎真由美 .

日本专利 :CN118769524A ,2024-10-15

[9]

偏光膜、偏光板和该偏光膜的制造方法 [P].

岛津亮 ;

后藤周作 ;

森崎真由美 .

中国专利 :CN114026471A ,2022-02-08

[10]

偏光膜、偏光板及该偏光膜的制造方法 [P].

高永幸佑 ;

后藤周作 ;

滨本大介 .

日本专利 :CN113994243B ,2024-08-27

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