光刻胶涂覆设备

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN201220575490.4

申请日：

2012-11-02

公开(公告)号：

CN202854484U

公开(公告)日：

2013-04-03

发明(设计)人：

赵娜王守波王文龙操彬彬

申请人：

申请人地址：

100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号

IPC主分类号：

G03F716

IPC分类号：

代理机构：

北京中博世达专利商标代理有限公司 11274

代理人：

申健

法律状态：

专利权的终止

国省代码：

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2022-11-18	专利权的终止	专利权有效期届满 IPC(主分类):G03F 7/16 申请日:20121102 授权公告日:20130403
2013-04-03	授权	授权

共 50 条

[1]

光刻胶涂覆设备 [P].

楼玫男 .

中国专利 :CN222926956U ,2025-05-30

[2]

光刻胶涂覆设备 [P].

张金中 .

中国专利 :CN201867585U ,2011-06-15

[3]

光刻胶涂覆设备及光刻胶涂覆方法 [P].

周伟峰 .

中国专利 :CN1963671B ,2007-05-16

[4]

光刻胶涂覆设备 [P].

不公告发明人 .

中国专利 :CN108646516A ,2018-10-12

[5]

光刻胶涂覆装置及光刻胶涂覆方法 [P].

田笵焕 ;

林钟吉 ;

张成根 ;

金在植 .

中国专利 :CN113138535A ,2021-07-20

[6]

光刻胶涂覆系统及光刻胶涂覆方法 [P].

汝长海 ;

朱军辉 ;

翟荣安 ;

王勇 .

中国专利 :CN112099313A ,2020-12-18

[7]

光刻胶涂覆结构及光刻胶的涂覆方法 [P].

朱圣兵 ;

戴毓强 ;

薛兴涛 .

中国专利 :CN118151493A ,2024-06-07

[8]

光刻胶的涂覆方法 [P].

杨晓松 .

中国专利 :CN102375342A ,2012-03-14

[9]

光刻胶涂覆方法 [P].

于世瑞 ;

李黎明 ;

王健鹏 ;

陈蕾 .

中国专利 :CN101592866A ,2009-12-02

[10]

光刻胶涂覆装置 [P].

崔曦允 ;

吴炅桓 ;

金浩均 ;

李俊熙 ;

崔耀汉 .

韩国专利 :CN118259552A ,2024-06-28

← 1 2 3 4 5 →