光刻胶涂覆设备及光刻胶涂覆方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200610145216.2

申请日：

2006-11-17

公开(公告)号：

CN1963671B

公开(公告)日：

2007-05-16

发明(设计)人：

周伟峰

申请人：

申请人地址：

100176 北京经济技术开发区西环中路8号

IPC主分类号：

G03F716

IPC分类号：

G02F11333

代理机构：

北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205

代理人：

刘芳

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2010-05-12	授权	授权
2007-07-11	实质审查的生效	实质审查的生效
2007-05-16	公开	公开
2007-11-21	专利申请权、专利权的转移专利申请权的转移	专利申请权、专利权的转移专利申请权的转移变更事项:申请人变更前权利人:京东方科技集团股份有限公司变更后权利人:北京京东方光电科技有限公司变更事项:地址变更前权利人:100016北京市朝阳区酒仙桥路10号变更后权利人:100176北京经济技术开发区西环中路8号变更事项:共同申请人变更前权利人:无变更后权利人:京东方科技集团股份有限公司登记生效日:20071019
2020-12-15	专利申请权、专利权的转移	专利权的转移 IPC(主分类):G03F 7/16 登记生效日:20201202 变更事项:专利权人变更前权利人:北京京东方光电科技有限公司变更后权利人:高创（苏州）电子有限公司变更事项:地址变更前权利人:100176 北京经济技术开发区西环中路8号变更后权利人:215200 江苏省苏州市吴江经济技术开发区中山北路1700号变更事项:专利权人变更前权利人:京东方科技集团股份有限公司变更后权利人:京东方科技集团股份有限公司

共 50 条

[1]

光刻胶涂覆装置及光刻胶涂覆方法 [P].

田笵焕 ;

林钟吉 ;

张成根 ;

金在植 .

中国专利 :CN113138535A ,2021-07-20

[2]

光刻胶涂覆系统及光刻胶涂覆方法 [P].

汝长海 ;

朱军辉 ;

翟荣安 ;

王勇 .

中国专利 :CN112099313A ,2020-12-18

[3]

光刻胶涂覆设备 [P].

不公告发明人 .

中国专利 :CN108646516A ,2018-10-12

[4]

光刻胶涂覆设备 [P].

楼玫男 .

中国专利 :CN222926956U ,2025-05-30

[5]

光刻胶涂覆设备 [P].

张金中 .

中国专利 :CN201867585U ,2011-06-15

[6]

光刻胶涂覆设备 [P].

赵娜 ;

王守波 ;

王文龙 ;

操彬彬 .

中国专利 :CN202854484U ,2013-04-03

[7]

光刻胶涂覆结构及光刻胶的涂覆方法 [P].

朱圣兵 ;

戴毓强 ;

薛兴涛 .

中国专利 :CN118151493A ,2024-06-07

[8]

光刻胶涂覆方法 [P].

于世瑞 ;

李黎明 ;

王健鹏 ;

陈蕾 .

中国专利 :CN101592866A ,2009-12-02

[9]

光刻胶涂覆装置 [P].

崔曦允 ;

吴炅桓 ;

金浩均 ;

李俊熙 ;

崔耀汉 .

韩国专利 :CN118259552A ,2024-06-28

[10]

光刻胶涂覆监控方法 [P].

于世瑞 .

中国专利 :CN102044463B ,2011-05-04

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