磁场辅助化学气相沉积法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200610114717.4

申请日：

2006-11-22

公开(公告)号：

CN101190779B

公开(公告)日：

2008-06-04

发明(设计)人：

刘云圻魏大程曹灵超付磊李祥龙王钰于贵

申请人：

申请人地址：

100080 北京市海淀区中关村北一街2号

IPC主分类号：

B82B300

IPC分类号：

C23C16448

代理机构：

中科专利商标代理有限责任公司 11021

代理人：

周国城

法律状态：

专利权的终止

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2014-01-15	专利权的终止	未缴年费专利权终止号牌文件类型代码:1605 号牌文件序号:101563322319 IPC(主分类):B82B 3/00 专利号:ZL2006101147174 申请日:20061122 授权公告日:20110921 终止日期:20121122
2011-09-21	授权	授权
2008-06-04	公开	公开
2008-11-05	实质审查的生效	实质审查的生效

共 50 条

[1]

化学气相沉积法涂层装置 [P].

朴万成 ;

黄宇哲 ;

李成哲 ;

金哲男 ;

金上万 ;

李权星 ;

王宏刚 .

中国专利 :CN202214415U ,2012-05-09

[2]

化学气相沉积法涂层装置 [P].

朴万成 ;

黄宇哲 ;

李成哲 ;

金哲男 ;

金上万 ;

李权星 ;

王宏刚 .

中国专利 :CN102953049A ,2013-03-06

[3]

PA－SiN的化学气相沉积法 [P].

吴宾宾 .

中国专利 :CN1995452A ,2007-07-11

[4]

一种化学气相沉积法装置 [P].

李雪松 ;

王跃 ;

青芳竹 .

中国专利 :CN109371382A ,2019-02-22

[5]

由铱配合物构成的化学气相沉积用原料及使用该化学气相沉积用原料的化学气相沉积法 [P].

原田了辅 ;

重富利幸 ;

铃木和治 .

中国专利 :CN110431253A ,2019-11-08

[6]

通过化学气相沉积法合成有序微孔碳 [P].

Y·王 ;

杰马尔·埃尔詹 ;

M·拉什德·奥斯曼 ;

S·崔 ;

M·崔 .

中国专利 :CN107427812A ,2017-12-01

[7]

化学气相沉积法涂层系统及工艺 [P].

朴万成 ;

黄宇哲 ;

李成哲 ;

金哲男 ;

金上万 ;

李权星 ;

王宏刚 .

中国专利 :CN102953045B ,2013-03-06

[8]

包含有机铂化合物的化学气相沉积用原料及使用该化学气相沉积用原料的化学气相沉积法 [P].

斋藤昌幸 ;

铃木和治 ;

重富利幸 ;

锅谷俊一 .

中国专利 :CN103874705A ,2014-06-18

[9]

一种基于化学气相沉积法的纳米材料打印机 [P].

谢颖熙 ;

张伯乐 ;

陆龙生 ;

汤勇 .

中国专利 :CN111441038A ,2020-07-24

[10]

一种基于化学气相沉积法的纳米材料打印方法 [P].

谢颖熙 ;

张伯乐 ;

陆龙生 ;

汤勇 .

中国专利 :CN111394713B ,2020-07-10

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