化学气相沉积法涂层系统及工艺

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201110246169.1

申请日：

2011-08-25

公开(公告)号：

CN102953045B

公开(公告)日：

2013-03-06

发明(设计)人：

朴万成黄宇哲李成哲金哲男金上万李权星王宏刚

申请人：

申请人地址：

110045 辽宁省沈阳市皇姑区陵东乡观音路

IPC主分类号：

C23C1644

IPC分类号：

C23C16455 C23C1652

代理机构：

沈阳杰克知识产权代理有限公司 21207

代理人：

金春华

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2014-04-09	授权	授权
2013-12-11	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101550737576 IPC(主分类):C23C 16/44 专利申请号:2011102461691 申请日:20110825
2018-08-17	专利权的终止	未缴年费专利权终止 IPC(主分类):C23C 16/44 申请日:20110825 授权公告日:20140409 终止日期:20170825
2013-03-06	公开	公开

共 50 条

[1]

化学气相沉积法涂层装置 [P].

朴万成 ;

黄宇哲 ;

李成哲 ;

金哲男 ;

金上万 ;

李权星 ;

王宏刚 .

中国专利 :CN202214415U ,2012-05-09

[2]

化学气相沉积法涂层装置 [P].

朴万成 ;

黄宇哲 ;

李成哲 ;

金哲男 ;

金上万 ;

李权星 ;

王宏刚 .

中国专利 :CN102953049A ,2013-03-06

[3]

磁场辅助化学气相沉积法 [P].

刘云圻 ;

魏大程 ;

曹灵超 ;

付磊 ;

李祥龙 ;

王钰 ;

于贵 .

中国专利 :CN101190779B ,2008-06-04

[4]

一种化学气相沉积法装置 [P].

李雪松 ;

王跃 ;

青芳竹 .

中国专利 :CN109371382A ,2019-02-22

[5]

化学气相沉积装置及化学气相沉积系统 [P].

杨耀辉 ;

胡文华 ;

梅治民 ;

王维维 ;

俞方旭 ;

席洪峰 ;

罗治湘 .

中国专利 :CN118086872A ,2024-05-28

[6]

化学气相沉积法的工艺参数调整方法、装置及设备 [P].

魏晋 ;

孙元成 ;

朱永昌 ;

赵劲凯 ;

孔壮 ;

王蕾 ;

宋学富 ;

李莹江 ;

于欣民 ;

杨雅楠 ;

刘波 ;

刘佳铭 .

中国专利 :CN121063809A ,2025-12-05

[7]

化学气相沉积装置及系统 [P].

方政加 ;

刘恒 .

中国专利 :CN103320768A ,2013-09-25

[8]

PA－SiN的化学气相沉积法 [P].

吴宾宾 .

中国专利 :CN1995452A ,2007-07-11

[9]

化学气相沉积装置、化学气相沉积方法 [P].

周鸣 .

中国专利 :CN103060772B ,2013-04-24

[10]

化学气相沉积设备 [P].

金昶成 ;

刘相德 ;

洪钟波 ;

沈智慧 ;

李元申 .

中国专利 :CN102230167A ,2011-11-02

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