蚀刻液循环系统及蚀刻装置

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201811005589.9

申请日：

2018-08-30

公开(公告)号：

CN109023375B

公开(公告)日：

2018-12-18

发明(设计)人：

谭芳

申请人：

申请人地址：

518132 广东省深圳市光明新区塘明大道9-2号

IPC主分类号：

C23F146

IPC分类号：

代理机构：

广州三环专利商标代理有限公司 44202

代理人：

郝传鑫;熊永强

法律状态：

著录事项变更

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2020-12-18	著录事项变更	著录事项变更 IPC(主分类):C23F 1/46 变更事项:申请人变更前:深圳市华星光电技术有限公司变更后:TCL华星光电技术有限公司变更事项:地址变更前:518132 广东省深圳市光明新区塘明大道9-2号变更后:518132 广东省深圳市光明新区塘明大道9-2号
2019-01-11	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):C23F 1/46 申请日:20180830
2021-03-02	授权	授权
2018-12-18	公开	公开

共 50 条

[1]

一种去除湿法蚀刻液中蚀刻产物的过滤装置及蚀刻液循环系统 [P].

吴祥 .

中国专利 :CN116651080B ,2025-12-05

[2]

蚀刻液的再生方法，蚀刻方法及蚀刻装置 [P].

伊豆田信彦 ;

渡津春留 .

中国专利 :CN101303976A ,2008-11-12

[3]

蚀刻液供应装置、蚀刻装置及蚀刻方法 [P].

崔浩根 ;

郑培铉 ;

金龙佑 .

中国专利 :CN101140374A ,2008-03-12

[4]

处理已使用蚀刻液的再循环系统 [P].

李钧 ;

毛谙章 ;

姚标 .

中国专利 :CN205974671U ,2017-02-22

[5]

蚀刻液可循环式蚀刻机 [P].

顾卫明 ;

赵福庆 ;

胡松平 .

中国专利 :CN223674749U ,2025-12-16

[6]

处理已使用蚀刻液的再循环系统 [P].

施道可 .

中国专利 :CN102807294A ,2012-12-05

[7]

一种高含铜蚀刻液再生循环系统 [P].

韦建敏 ;

赵兴文 ;

张晓蓓 ;

张小波 .

中国专利 :CN106011858A ,2016-10-12

[8]

一种高含铜蚀刻液再生循环系统 [P].

韦建敏 ;

赵兴文 ;

张晓蓓 ;

张小波 .

中国专利 :CN205974669U ,2017-02-22

[9]

酸性蚀刻液循环再生系统 [P].

韦建敏 ;

赵兴文 ;

张小波 ;

张晓蓓 ;

吴圣杰 .

中国专利 :CN103628064A ,2014-03-12

[10]

碱性蚀刻液循环再生系统 [P].

韦建敏 ;

赵兴文 ;

张小波 ;

吴圣杰 .

中国专利 :CN103628069A ,2014-03-12

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