具有图案化折射率调制的表面浮雕光栅和制造方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202080045258.7

申请日：

2020-06-05

公开(公告)号：

CN114080550A

公开(公告)日：

2022-02-22

发明(设计)人：

张波

申请人：

申请人地址：

美国加利福尼亚州

IPC主分类号：

G02B518

IPC分类号：

G02B600 G02B2701

代理机构：

北京安信方达知识产权代理有限公司 11262

代理人：

王红英;杨明钊

法律状态：

著录事项变更

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2022-07-29	著录事项变更	著录事项变更 IPC(主分类):G02B 5/18 变更事项:申请人变更前:脸谱科技有限责任公司变更后:元平台技术有限公司变更事项:地址变更前:美国加利福尼亚州变更后:美国加利福尼亚州
2022-02-22	公开	公开
2022-03-11	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):G02B 5/18 申请日:20200605

共 50 条

[1]

全息光栅中的折射率调制修改 [P].

马蒂厄·查尔斯·拉乌尔·莱博维奇 ;

奥斯汀·莱恩 ;

迟万里 ;

李熙允 .

美国专利 :CN114207532B ,2024-12-24

[2]

全息光栅中的折射率调制修改 [P].

马蒂厄·查尔斯·拉乌尔·莱博维奇 ;

奥斯汀·莱恩 ;

迟万里 ;

李熙允 .

中国专利 :CN114207532A ,2022-03-18

[3]

折射率光栅制造方法 [P].

A·W·加蒂卡 ;

W·V·道尔 ;

S·P·勒布朗 ;

R·P·佩潘 ;

B·J·盖茨 ;

B·J·克朗克 ;

J·T·考赫 ;

D·L·拉布拉克 ;

B·K·耐尔逊 ;

C·B·沃克 .

中国专利 :CN1494663A ,2004-05-05

[4]

具有高折射率的可固化制剂及其在使用纳米压印光刻的表面浮雕光栅中的应用 [P].

扎卡里·佩尔穆特 ;

安基特·沃拉 ;

奥斯汀·莱恩 ;

朱塞佩·卡拉菲奥雷 ;

马修·E·科尔布恩 ;

饶婷玲 .

中国专利 :CN113383272A ,2021-09-10

[5]

光学折射率调制聚合物、光学折射率调制聚合物组合物和折射率调节方法 [P].

川口佳秀 ;

诸石裕 ;

井上彻雄 ;

宗和范 .

中国专利 :CN100424102C ,2006-11-15

[6]

具有高折射率抗蚀剂的表面浮雕波导 [P].

M·C·特劳布 ;

Y·刘 ;

V·辛格 ;

F·Y·徐 ;

R·D·泰克尔斯特 ;

Q·薛 ;

S·巴尔加瓦 ;

V·K·刘 ;

B·M-J·伯恩 ;

K·梅塞尔 .

美国专利 :CN118946451A ,2024-11-12

[7]

具有高折射率抗蚀剂的表面浮雕波导 [P].

M·C·特劳布 ;

Y·刘 ;

V·辛格 ;

F·Y·徐 ;

R·D·泰克尔斯特 ;

Q·薛 ;

S·巴尔加瓦 ;

V·K·刘 ;

B·M-J·伯恩 ;

K·梅塞尔 .

美国专利 :CN118946451B ,2025-12-05

[8]

折射率沿光纤轴向调制的超长周期光纤光栅 [P].

张伟刚 ;

范弘建 ;

魏石磊 ;

李晓兰 ;

张珊珊 ;

王恺 .

中国专利 :CN202057828U ,2011-11-30

[9]

具有低折射率图案化结构的薄膜LED阵列 [P].

T·洛佩兹 ;

I·威尔德森 ;

E·W·杨 .

美国专利 :CN118235259A ,2024-06-21

[10]

折射率变化元件和折射率变化方法 [P].

都鸟显司 ;

吉村玲子 ;

相贺史彦 ;

多田宰 .

中国专利 :CN1755427A ,2006-04-05

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