具有高折射率的可固化制剂及其在使用纳米压印光刻的表面浮雕光栅中的应用

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202080012633.8

申请日：

2020-02-04

公开(公告)号：

CN113383272A

公开(公告)日：

2021-09-10

发明(设计)人：

扎卡里·佩尔穆特安基特·沃拉奥斯汀·莱恩朱塞佩·卡拉菲奥雷马修·E·科尔布恩饶婷玲

申请人：

申请人地址：

美国加利福尼亚州

IPC主分类号：

G03F700

IPC分类号：

代理机构：

北京安信方达知识产权代理有限公司 11262

代理人：

牟静芳;郑霞

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2021-09-28	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/00 申请日:20200204
2021-09-10	公开	公开
2022-07-29	著录事项变更	著录事项变更 IPC(主分类):G03F 7/00 变更事项:申请人变更前:脸谱科技有限责任公司变更后:元平台技术有限公司变更事项:地址变更前:美国加利福尼亚州变更后:美国加利福尼亚州

共 50 条

[1]

具有图案化折射率调制的表面浮雕光栅和制造方法 [P].

张波 .

中国专利 :CN114080550A ,2022-02-22

[2]

具有高折射率的可UV固化涂层 [P].

N·A·格里戈连科 ;

A·奥斯瓦尔德 .

德国专利 :CN119731276A ,2025-03-28

[3]

具有高折射率抗蚀剂的表面浮雕波导 [P].

M·C·特劳布 ;

Y·刘 ;

V·辛格 ;

F·Y·徐 ;

R·D·泰克尔斯特 ;

Q·薛 ;

S·巴尔加瓦 ;

V·K·刘 ;

B·M-J·伯恩 ;

K·梅塞尔 .

美国专利 :CN118946451A ,2024-11-12

[4]

具有高折射率抗蚀剂的表面浮雕波导 [P].

M·C·特劳布 ;

Y·刘 ;

V·辛格 ;

F·Y·徐 ;

R·D·泰克尔斯特 ;

Q·薛 ;

S·巴尔加瓦 ;

V·K·刘 ;

B·M-J·伯恩 ;

K·梅塞尔 .

美国专利 :CN118946451B ,2025-12-05

[5]

用于光波导应用的高折射率纳米可压印树脂 [P].

A·B·乔杜里 ;

K·H·V·卡利玛 ;

M·K·耶拉-亚科 ;

P·P·海诺南 .

美国专利 :CN120167001A ,2025-06-17

[6]

一种高折射率UV树脂及其制备方法与纳米压印的应用 [P].

李政 .

中国专利 :CN111217987A ,2020-06-02

[7]

使用高折射率材料的平坦光谱响应光栅 [P].

P·圣西莱尔 ;

M·霍拉萨尼内贾德 ;

林滇敏 .

中国专利 :CN114270229A ,2022-04-01

[8]

高折射率的封装组合物及其应用 [P].

秦川 ;

肖桂林 ;

朱双全 .

中国专利 :CN117924568A ,2024-04-26

[9]

一种用于纳米压印工艺的高折射率钛酸钡纳米填料的制备及应用 [P].

罗灵 ;

竹文坤 ;

袁涛 ;

陆聪 ;

李福 ;

魏兴全 ;

张勇 .

中国专利 :CN121020641A ,2025-11-28

[10]

使用高折射率材料的平坦光谱响应光栅 [P].

P·圣西莱尔 ;

M·霍拉萨尼内贾德 ;

林滇敏 .

美国专利 :CN114270229B ,2025-03-25

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