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一种硅片抛光液生产检测系统
被引:0
申请号
:
CN202220644772.9
申请日
:
2022-03-22
公开(公告)号
:
CN217033658U
公开(公告)日
:
2022-07-22
发明(设计)人
:
陶翔
申博元
陈苏兰
申请人
:
申请人地址
:
314001 浙江省嘉兴市南湖区大桥镇步焦路1688号1幢三楼
IPC主分类号
:
G01N2184
IPC分类号
:
G01N114
G01N1100
G01K1300
代理机构
:
浙江永鼎律师事务所 33233
代理人
:
周祥玉
法律状态
:
授权
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2022-07-22
授权
授权
共 50 条
[1]
一种硅片生产抛光液反应检测装置
[P].
高萌
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
天津洙诺科技有限公司
天津洙诺科技有限公司
高萌
.
中国专利
:CN221933320U
,2024-11-01
[2]
一种硅片抛光液用回收装置
[P].
陈锋
论文数:
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0
陈锋
;
沈国君
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沈国君
;
陆勇
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陆勇
;
刘太盛
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0
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0
刘太盛
.
中国专利
:CN214913812U
,2021-11-30
[3]
一种硅片抛光液回收再生装置
[P].
高如山
论文数:
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0
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机构:
天津西美半导体材料有限公司
天津西美半导体材料有限公司
高如山
.
中国专利
:CN222238976U
,2024-12-27
[4]
一种硅片抛光液制备用取样装置
[P].
井锋
论文数:
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机构:
江苏山水半导体科技有限公司
江苏山水半导体科技有限公司
井锋
;
张俊华
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机构:
江苏山水半导体科技有限公司
江苏山水半导体科技有限公司
张俊华
;
田建颖
论文数:
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机构:
江苏山水半导体科技有限公司
江苏山水半导体科技有限公司
田建颖
;
雷双双
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0
机构:
江苏山水半导体科技有限公司
江苏山水半导体科技有限公司
雷双双
.
中国专利
:CN221038224U
,2024-05-28
[5]
一种抛光液过滤系统
[P].
余秀谋
论文数:
0
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余秀谋
.
中国专利
:CN209223843U
,2019-08-09
[6]
一种抛光液配制系统
[P].
胡晓亮
论文数:
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胡晓亮
;
赵文龙
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赵文龙
;
高烨
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高烨
;
崔小换
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崔小换
.
中国专利
:CN204563966U
,2015-08-19
[7]
一种抛光液管理系统
[P].
王永成
论文数:
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0
王永成
.
中国专利
:CN213828561U
,2021-07-30
[8]
抛光液输送系统
[P].
程艳蒙
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程艳蒙
;
张洁
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张洁
;
林武庆
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林武庆
;
汪良
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汪良
.
中国专利
:CN215588854U
,2022-01-21
[9]
一种氧化铝抛光液生产装置
[P].
阳震
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阳震
;
王田军
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王田军
;
何伟东
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何伟东
;
郑艳琴
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郑艳琴
.
中国专利
:CN206494887U
,2017-09-15
[10]
一种抛光液的生产装置
[P].
郭观发
论文数:
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机构:
广东厚源环境资源技术有限公司
广东厚源环境资源技术有限公司
郭观发
.
中国专利
:CN222534754U
,2025-02-28
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