沉积源、沉积装置及利用沉积装置的显示装置制造方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201610037511.X

申请日：

2016-01-20

公开(公告)号：

CN106337165A

公开(公告)日：

2017-01-18

发明(设计)人：

金恩镐金茂显李秀奂

申请人：

申请人地址：

韩国京畿道

IPC主分类号：

C23C1424

IPC分类号：

C23C1404 H01L2732 H01L2177 H01L2712

代理机构：

北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司 11204

代理人：

王达佐;刘铮

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2018-06-22	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):C23C 14/24 申请日:20160120
2020-03-10	授权	授权
2017-01-18	公开	公开

共 50 条

[1]

沉积掩模、沉积装置及制造显示装置的方法 [P].

郑栋燮 .

中国专利 :CN107871826A ,2018-04-03

[2]

沉积装置及利用该沉积装置的沉积方法 [P].

郑基菜 ;

金京汉 ;

朴在穆 ;

朴宰完 .

中国专利 :CN110670022A ,2020-01-10

[3]

沉积源及显示装置的制造装置 [P].

曹踊晧 ;

洪锡俊 ;

姜有珍 ;

金东昱 ;

郑和平 ;

韩尚辰 .

中国专利 :CN218291085U ,2023-01-13

[4]

沉积源及具有此沉积源的沉积装置 [P].

曹生贤 ;

安成一 .

中国专利 :CN110234788A ,2019-09-13

[5]

沉积装置及利用其的发光显示装置的制造方法 [P].

郑兴铁 ;

金东昱 ;

郑成镐 .

中国专利 :CN107151781A ,2017-09-12

[6]

沉积装置和使用该沉积装置制造显示装置的方法 [P].

金佑铉 .

中国专利 :CN104342620A ,2015-02-11

[7]

沉积设备和利用沉积设备制造显示装置的方法 [P].

李振榕 ;

柳景泰 ;

李衍祐 ;

李一洙 .

韩国专利 :CN120967284A ,2025-11-18

[8]

沉积装置及利用该装置的沉积方法 [P].

孙尚佑 ;

申相原 .

中国专利 :CN108070830A ,2018-05-25

[9]

薄膜沉积源、沉积装置和使用该沉积装置的沉积方法 [P].

李钟禹 .

中国专利 :CN103849857B ,2014-06-11

[10]

沉积源及沉积装置 [P].

宜保学 ;

江平大 ;

坂本纯一 .

中国专利 :CN113454262A ,2021-09-28

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