沉积掩模、沉积装置及制造显示装置的方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201710846890.1

申请日：

2017-09-19

公开(公告)号：

CN107871826A

公开(公告)日：

2018-04-03

发明(设计)人：

郑栋燮

申请人：

申请人地址：

韩国京畿道

IPC主分类号：

H01L5156

IPC分类号：

代理机构：

北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司 11204

代理人：

王达佐;刘铮

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2021-10-01	授权	授权
2018-04-03	公开	公开
2019-10-18	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 51/56 申请日:20170919

共 50 条

[1]

沉积掩模、制造沉积掩模的方法和制造显示装置的方法 [P].

任星淳 ;

黄圭焕 ;

金在植 ;

文敏浩 ;

文英慜 ;

张淳喆 ;

姜泰旭 .

中国专利 :CN105624609A ,2016-06-01

[2]

沉积掩模、制造沉积掩模的方法和使用沉积掩模制造显示装置的方法 [P].

宋荣振 ;

金胜勋 ;

赵炳勋 .

韩国专利 :CN120776264A ,2025-10-14

[3]

沉积掩模、使用沉积掩模制造显示装置的方法和显示装置 [P].

金桢国 ;

文英慜 .

韩国专利 :CN112864171B ,2025-10-03

[4]

沉积掩模、使用沉积掩模制造显示装置的方法和显示装置 [P].

金桢国 ;

文英慜 .

中国专利 :CN112864171A ,2021-05-28

[5]

沉积掩模、沉积设备和制造显示装置的方法 [P].

金成云 ;

李德重 ;

郑锡宇 .

韩国专利 :CN120291021A ,2025-07-11

[6]

沉积源、沉积装置及利用沉积装置的显示装置制造方法 [P].

金恩镐 ;

金茂显 ;

李秀奂 .

中国专利 :CN106337165A ,2017-01-18

[7]

显示装置的沉积掩模及其制造方法 [P].

金利坤 ;

金泰亨 .

中国专利 :CN1534383A ,2004-10-06

[8]

沉积掩模、使用沉积掩模制造显示装置的方法和由其制造的显示装置 [P].

金南珍 ;

朴徹桓 .

中国专利 :CN104112825B ,2014-10-22

[9]

显示装置、制造显示装置的方法和沉积掩模 [P].

朴省炫 ;

徐柱洪 ;

蒋昊原 .

韩国专利 :CN121174818A ,2025-12-19

[10]

沉积掩模、应用它制造显示装置的方法及显示装置 [P].

山口优 .

中国专利 :CN100433355C ,2005-02-02

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