显示装置、制造显示装置的方法和沉积掩模

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202510182515.6

申请日：

2025-02-19

公开(公告)号：

CN121174818A

公开(公告)日：

2025-12-19

发明(设计)人：

朴省炫徐柱洪蒋昊原

申请人：

三星显示有限公司

申请人地址：

韩国京畿道龙仁市

IPC主分类号：

H10K59/12

IPC分类号：

H10K71/00 H10K59/122 H10K59/35 H10K59/80 H10K50/824

代理机构：

北京铭硕知识产权代理有限公司 11286

代理人：

肖芳;闵月

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-12-19	公开	公开

共 50 条

[1]

沉积掩模、使用沉积掩模制造显示装置的方法和显示装置 [P].

金桢国 ;

文英慜 .

韩国专利 :CN112864171B ,2025-10-03

[2]

沉积掩模、使用沉积掩模制造显示装置的方法和显示装置 [P].

金桢国 ;

文英慜 .

中国专利 :CN112864171A ,2021-05-28

[3]

沉积掩模、应用它制造显示装置的方法及显示装置 [P].

山口优 .

中国专利 :CN100433355C ,2005-02-02

[4]

沉积掩模、制造沉积掩模的方法和制造显示装置的方法 [P].

任星淳 ;

黄圭焕 ;

金在植 ;

文敏浩 ;

文英慜 ;

张淳喆 ;

姜泰旭 .

中国专利 :CN105624609A ,2016-06-01

[5]

沉积掩模、使用沉积掩模制造显示装置的方法和由其制造的显示装置 [P].

金南珍 ;

朴徹桓 .

中国专利 :CN104112825B ,2014-10-22

[6]

沉积掩模、沉积设备和制造显示装置的方法 [P].

金成云 ;

李德重 ;

郑锡宇 .

韩国专利 :CN120291021A ,2025-07-11

[7]

掩模和掩模的制造方法以及显示装置的制造方法和显示装置 [P].

塚尾怜司 ;

林直树 ;

渡部一梦 ;

野田大树 ;

白岩俊纪 ;

山冈裕 ;

仓田昌美 ;

宇佐美健人 ;

小川敬典 ;

近藤和纪 .

日本专利 :CN119907728A ,2025-04-29

[8]

显示装置、光掩模和显示装置的制造方法 [P].

孙宣权 .

中国专利 :CN111812898A ,2020-10-23

[9]

显示装置、光掩模和显示装置的制造方法 [P].

孙宣权 .

韩国专利 :CN111812898B ,2025-01-24

[10]

沉积掩模、制造沉积掩模的方法和使用沉积掩模制造显示装置的方法 [P].

宋荣振 ;

金胜勋 ;

赵炳勋 .

韩国专利 :CN120776264A ,2025-10-14

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