掩模和掩模的制造方法以及显示装置的制造方法和显示装置

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202380066044.1

申请日：

2023-08-02

公开(公告)号：

CN119907728A

公开(公告)日：

2025-04-29

发明(设计)人：

塚尾怜司林直树渡部一梦野田大树白岩俊纪山冈裕仓田昌美宇佐美健人小川敬典近藤和纪

申请人：

迪睿合株式会社信越化学工业株式会社

申请人地址：

日本枥木县

IPC主分类号：

B23K26/066

IPC分类号：

B23K26/361 G09F9/00 G09F9/33 H10H20/857 H10H20/01

代理机构：

中国专利代理(香港)有限公司 72001

代理人：

何欣亭;陈岚

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-09-26	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):B23K 26/066申请日:20230802
2025-04-29	公开	公开

共 50 条

[1]

掩模、掩模的制造方法和利用掩模的显示装置的制造方法 [P].

金桢国 ;

金辉 ;

李雅凛 ;

朴相河 ;

宋昇勇 ;

黄圭焕 .

中国专利 :CN113643965A ,2021-11-12

[2]

掩模、显示装置以及制造显示装置的方法 [P].

朴仁浩 ;

柳世桓 ;

金京准 ;

孙智贤 .

中国专利 :CN106298801B ,2017-01-04

[3]

显示装置、光掩模和显示装置的制造方法 [P].

孙宣权 .

中国专利 :CN111812898A ,2020-10-23

[4]

显示装置、制造显示装置的方法和沉积掩模 [P].

朴省炫 ;

徐柱洪 ;

蒋昊原 .

韩国专利 :CN121174818A ,2025-12-19

[5]

显示装置、光掩模和显示装置的制造方法 [P].

孙宣权 .

韩国专利 :CN111812898B ,2025-01-24

[6]

掩模的制造方法、据此制造的掩模和显示装置的制造方法 [P].

金泰圣 ;

吕伦钟 ;

赵炫珉 ;

孙智熙 ;

任星淳 .

中国专利 :CN113437246A ,2021-09-24

[7]

显示装置制造用光掩模、以及显示装置的制造方法 [P].

今敷修久 .

中国专利 :CN108594594A ,2018-09-28

[8]

制造掩模的方法和制造显示装置的方法 [P].

金柾勋 ;

晋丞民 ;

洪宰敏 .

中国专利 :CN113388804A ,2021-09-14

[9]

显示装置制造用光掩模以及显示装置的制造方法 [P].

今敷修久 .

中国专利 :CN108628089A ,2018-10-09

[10]

沉积掩模、制造沉积掩模的方法和制造显示装置的方法 [P].

任星淳 ;

黄圭焕 ;

金在植 ;

文敏浩 ;

文英慜 ;

张淳喆 ;

姜泰旭 .

中国专利 :CN105624609A ,2016-06-01

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