掩模、掩模的制造方法和利用掩模的显示装置的制造方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202011441701.0

申请日：

2020-12-08

公开(公告)号：

CN113643965A

公开(公告)日：

2021-11-12

发明(设计)人：

金桢国金辉李雅凛朴相河宋昇勇黄圭焕

申请人：

申请人地址：

韩国京畿道龙仁市

IPC主分类号：

H01L21033

IPC分类号：

H01L2732

代理机构：

北京铭硕知识产权代理有限公司 11286

代理人：

李盛泉;姜长星

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2021-11-12	公开	公开

共 50 条

[1]

掩模的制造方法、据此制造的掩模和显示装置的制造方法 [P].

金泰圣 ;

吕伦钟 ;

赵炫珉 ;

孙智熙 ;

任星淳 .

中国专利 :CN113437246A ,2021-09-24

[2]

掩模和掩模的制造方法以及显示装置的制造方法和显示装置 [P].

塚尾怜司 ;

林直树 ;

渡部一梦 ;

野田大树 ;

白岩俊纪 ;

山冈裕 ;

仓田昌美 ;

宇佐美健人 ;

小川敬典 ;

近藤和纪 .

日本专利 :CN119907728A ,2025-04-29

[3]

掩模、包括掩模的掩模组件和制造显示装置的方法 [P].

金世一 ;

李尙玟 ;

李丞赈 ;

全志姸 .

韩国专利 :CN118613128A ,2024-09-06

[4]

沉积掩模、制造沉积掩模的方法和制造显示装置的方法 [P].

任星淳 ;

黄圭焕 ;

金在植 ;

文敏浩 ;

文英慜 ;

张淳喆 ;

姜泰旭 .

中国专利 :CN105624609A ,2016-06-01

[5]

光掩模的制造方法、光掩模和显示装置的制造方法 [P].

金台勋 ;

李锡薰 .

中国专利 :CN107844026A ,2018-03-27

[6]

光掩模、光掩模的制造方法和显示装置的制造方法 [P].

李锡薰 ;

柳敏相 ;

薛宰勋 .

日本专利 :CN111624849B ,2024-03-29

[7]

光掩模、光掩模的制造方法和显示装置的制造方法 [P].

山口昇 .

日本专利 :CN112506002B ,2025-08-01

[8]

光掩模的制造方法、光掩模和显示装置的制造方法 [P].

金台勋 ;

李锡薰 .

中国专利 :CN107861334A ,2018-03-30

[9]

光掩模、光掩模的制造方法和显示装置的制造方法 [P].

山口昇 .

中国专利 :CN112506002A ,2021-03-16

[10]

光掩模、光掩模的制造方法和显示装置的制造方法 [P].

山口昇 .

日本专利 :CN111752089B ,2024-07-02

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