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光掩模、光掩模的制造方法和显示装置的制造方法
被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN202010944925.7
申请日：
2020-09-10
公开(公告)号：
CN112506002B
公开(公告)日：
2025-08-01
发明(设计)人：
山口昇
申请人：
HOYA株式会社
申请人地址：
日本东京都
IPC主分类号：
G03F1/38
IPC分类号：
G03F1/50
G03F1/58
G03F1/66
H01L21/027
H01L21/033
代理机构：
北京三友知识产权代理有限公司 11127
代理人：
王博;褚瑶杨
法律状态：
授权
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2025-08-01 | 授权 | 授权 |