显示装置制造用光掩模、以及显示装置的制造方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201810185361.6

申请日：

2018-03-07

公开(公告)号：

CN108594594A

公开(公告)日：

2018-09-28

发明(设计)人：

今敷修久

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

G03F126

IPC分类号：

G03F176

代理机构：

北京集佳知识产权代理有限公司 11227

代理人：

李洋;青炜

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2019-11-26	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 1/26 申请日:20180307
2018-09-28	公开	公开

共 50 条

[1]

显示装置制造用光掩模以及显示装置的制造方法 [P].

今敷修久 .

中国专利 :CN108628089A ,2018-10-09

[2]

掩模、显示装置以及制造显示装置的方法 [P].

朴仁浩 ;

柳世桓 ;

金京准 ;

孙智贤 .

中国专利 :CN106298801B ,2017-01-04

[3]

掩模和掩模的制造方法以及显示装置的制造方法和显示装置 [P].

塚尾怜司 ;

林直树 ;

渡部一梦 ;

野田大树 ;

白岩俊纪 ;

山冈裕 ;

仓田昌美 ;

宇佐美健人 ;

小川敬典 ;

近藤和纪 .

日本专利 :CN119907728A ,2025-04-29

[4]

显示装置制造用相移掩模坯料、显示装置制造用相移掩模的制造方法及显示装置的制造方法 [P].

坪井诚治 .

中国专利 :CN108319104A ,2018-07-24

[5]

光掩模以及显示装置的制造方法 [P].

小林周平 .

中国专利 :CN113406857A ,2021-09-17

[6]

光掩模的制造方法以及显示装置的制造方法 [P].

吉川裕 .

中国专利 :CN105717738A ,2016-06-29

[7]

光掩模、显示装置以及该显示装置的制造方法 [P].

申东熹 ;

李根虎 ;

李龙熙 .

中国专利 :CN113448160A ,2021-09-28

[8]

显示装置以及使用掩模制造显示装置的方法 [P].

朴灿 ;

朴正权 ;

全庠垠 ;

赵兴柱 .

中国专利 :CN105389033A ,2016-03-09

[9]

相移掩模的制造方法、相移掩模以及显示装置的制造方法 [P].

中山宪治 .

中国专利 :CN113960877A ,2022-01-21

[10]

光掩模、光掩模的制造方法以及显示装置的制造方法 [P].

今敷修久 ;

吉川裕 ;

菅原浩幸 .

中国专利 :CN110673436A ,2020-01-10

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