显示装置以及使用掩模制造显示装置的方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201510416105.X

申请日：

2015-07-15

公开(公告)号：

CN105389033A

公开(公告)日：

2016-03-09

发明(设计)人：

朴灿朴正权全庠垠赵兴柱

申请人：

申请人地址：

韩国首尔

IPC主分类号：

G06F3041

IPC分类号：

G02F11333

代理机构：

北京三友知识产权代理有限公司 11127

代理人：

吕俊刚;刘久亮

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2016-03-09	公开	公开
2018-09-11	授权	授权
2016-04-06	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101653690638 IPC(主分类):G06F 3/041 专利申请号:201510416105X 申请日:20150715

共 50 条

[1]

显示装置、光掩模以及使用该光掩模制造显示装置的方法 [P].

张昶顺 ;

金熙罗 ;

沈怡燮 ;

许澈 .

中国专利 :CN105988256A ,2016-10-05

[2]

沉积掩模、使用沉积掩模制造显示装置的方法和显示装置 [P].

金桢国 ;

文英慜 .

中国专利 :CN112864171A ,2021-05-28

[3]

沉积掩模、使用沉积掩模制造显示装置的方法和显示装置 [P].

金桢国 ;

文英慜 .

韩国专利 :CN112864171B ,2025-10-03

[4]

掩模、显示装置以及制造显示装置的方法 [P].

朴仁浩 ;

柳世桓 ;

金京准 ;

孙智贤 .

中国专利 :CN106298801B ,2017-01-04

[5]

显示装置制造用光掩模、以及显示装置的制造方法 [P].

今敷修久 .

中国专利 :CN108594594A ,2018-09-28

[6]

显示装置制造用光掩模以及显示装置的制造方法 [P].

今敷修久 .

中国专利 :CN108628089A ,2018-10-09

[7]

沉积掩模、使用沉积掩模制造显示装置的方法和由其制造的显示装置 [P].

金南珍 ;

朴徹桓 .

中国专利 :CN104112825B ,2014-10-22

[8]

掩模和掩模的制造方法以及显示装置的制造方法和显示装置 [P].

塚尾怜司 ;

林直树 ;

渡部一梦 ;

野田大树 ;

白岩俊纪 ;

山冈裕 ;

仓田昌美 ;

宇佐美健人 ;

小川敬典 ;

近藤和纪 .

日本专利 :CN119907728A ,2025-04-29

[9]

光掩模、显示装置以及该显示装置的制造方法 [P].

申东熹 ;

李根虎 ;

李龙熙 .

中国专利 :CN113448160A ,2021-09-28

[10]

显示装置、掩模组件以及显示装置的制造装置 [P].

李相信 ;

金相勳 ;

金谞延 ;

金世一 ;

柳英恩 ;

朴钟圣 ;

李尙玟 ;

李丞赈 ;

张原荣 .

中国专利 :CN115347017A ,2022-11-15

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