沉积掩模、制造沉积掩模的方法和使用沉积掩模制造显示装置的方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202510381173.0

申请日：

2025-03-28

公开(公告)号：

CN120776264A

公开(公告)日：

2025-10-14

发明(设计)人：

宋荣振金胜勋赵炳勋

申请人：

三星显示有限公司

申请人地址：

韩国京畿道

IPC主分类号：

C23C16/04

IPC分类号：

H10K71/16 H10K71/00 H10K59/12 H10H29/01 C23C16/455

代理机构：

北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司 11204

代理人：

刘旭;顾丹

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-10-14	公开	公开

共 50 条

[1]

沉积掩模、使用沉积掩模制造显示装置的方法和显示装置 [P].

金桢国 ;

文英慜 .

韩国专利 :CN112864171B ,2025-10-03

[2]

沉积掩模、使用沉积掩模制造显示装置的方法和显示装置 [P].

金桢国 ;

文英慜 .

中国专利 :CN112864171A ,2021-05-28

[3]

沉积掩模、制造沉积掩模的方法和制造显示装置的方法 [P].

任星淳 ;

黄圭焕 ;

金在植 ;

文敏浩 ;

文英慜 ;

张淳喆 ;

姜泰旭 .

中国专利 :CN105624609A ,2016-06-01

[4]

沉积掩模、使用沉积掩模制造显示装置的方法和由其制造的显示装置 [P].

金南珍 ;

朴徹桓 .

中国专利 :CN104112825B ,2014-10-22

[5]

沉积掩模、沉积设备和制造显示装置的方法 [P].

金成云 ;

李德重 ;

郑锡宇 .

韩国专利 :CN120291021A ,2025-07-11

[6]

制造沉积掩模的方法 [P].

金成云 .

韩国专利 :CN120719248A ,2025-09-30

[7]

沉积掩模、沉积装置及制造显示装置的方法 [P].

郑栋燮 .

中国专利 :CN107871826A ,2018-04-03

[8]

沉积掩模和使用其制造的显示装置 [P].

金桢国 ;

金成云 ;

郑锡宇 ;

赵晟原 .

韩国专利 :CN222476739U ,2025-02-14

[9]

用于沉积的掩模、制造掩模的方法及制造显示装置的方法 [P].

金桢国 ;

文敏浩 ;

文英慜 .

中国专利 :CN108103437B ,2018-06-01

[10]

显示装置的沉积掩模及其制造方法 [P].

金利坤 ;

金泰亨 .

中国专利 :CN1534383A ,2004-10-06

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