沉积掩模、沉积设备和制造显示装置的方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202510019024.X

申请日：

2025-01-07

公开(公告)号：

CN120291021A

公开(公告)日：

2025-07-11

发明(设计)人：

金成云李德重郑锡宇

申请人：

三星显示有限公司

申请人地址：

韩国京畿道

IPC主分类号：

C23C14/24

IPC分类号：

H10K71/16 H10K59/12 C23C14/04

代理机构：

北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司 11204

代理人：

刘铮;李泽炎

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-07-11	公开	公开

共 50 条

[1]

沉积掩模、制造沉积掩模的方法和制造显示装置的方法 [P].

任星淳 ;

黄圭焕 ;

金在植 ;

文敏浩 ;

文英慜 ;

张淳喆 ;

姜泰旭 .

中国专利 :CN105624609A ,2016-06-01

[2]

沉积掩模、制造沉积掩模的方法和使用沉积掩模制造显示装置的方法 [P].

宋荣振 ;

金胜勋 ;

赵炳勋 .

韩国专利 :CN120776264A ,2025-10-14

[3]

沉积掩模、使用沉积掩模制造显示装置的方法和显示装置 [P].

金桢国 ;

文英慜 .

韩国专利 :CN112864171B ,2025-10-03

[4]

沉积掩模、使用沉积掩模制造显示装置的方法和显示装置 [P].

金桢国 ;

文英慜 .

中国专利 :CN112864171A ,2021-05-28

[5]

沉积设备和使用该沉积设备制造显示装置的方法 [P].

千圣贤 .

韩国专利 :CN111041453B ,2024-05-28

[6]

沉积设备和使用该沉积设备制造显示装置的方法 [P].

千圣贤 .

中国专利 :CN111041453A ,2020-04-21

[7]

沉积掩模、沉积装置及制造显示装置的方法 [P].

郑栋燮 .

中国专利 :CN107871826A ,2018-04-03

[8]

沉积设备和利用沉积设备制造显示装置的方法 [P].

李振榕 ;

柳景泰 ;

李衍祐 ;

李一洙 .

韩国专利 :CN120967284A ,2025-11-18

[9]

显示装置、制造显示装置的方法和沉积掩模 [P].

朴省炫 ;

徐柱洪 ;

蒋昊原 .

韩国专利 :CN121174818A ,2025-12-19

[10]

沉积掩模、使用沉积掩模制造显示装置的方法和由其制造的显示装置 [P].

金南珍 ;

朴徹桓 .

中国专利 :CN104112825B ,2014-10-22

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