一种晶体硅太阳能电池刻蚀方法

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专利类型
发明
申请号
CN201310086176.9
申请日
2013-03-19
公开(公告)号
CN103178159B
公开(公告)日
2013-06-26
发明(设计)人
吴春霞
申请人
申请人地址
212013 江苏省镇江市京口区学府路301号
IPC主分类号
H01L3118
IPC分类号
代理机构
南京经纬专利商标代理有限公司 32200
代理人
楼高潮
法律状态
授权
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共 50 条
[1]
晶体硅太阳能电池的制作方法及晶体硅太阳能电池 [P]. 
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童洪波 ;
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刘继宇 .
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[2]
晶体硅太阳能电池的退火方法和晶体硅太阳能电池 [P]. 
李吉 ;
杨联赞 ;
时宝 ;
林纲正 ;
陈刚 .
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[3]
一种晶体硅太阳能电池的制备方法及晶体硅太阳能电池 [P]. 
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[4]
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[5]
一种晶体硅太阳能电池片扩散层的刻蚀方法 [P]. 
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[6]
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谢毅 ;
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[7]
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[8]
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[9]
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[10]
一种晶体硅太阳能电池 [P]. 
杨伟强 ;
宋倩倩 ;
李吉 .
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