光场成像设备及其制造方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201610322114.7

申请日：

2016-05-16

公开(公告)号：

CN106899789A

公开(公告)日：

2017-06-27

发明(设计)人：

金钟殷

申请人：

申请人地址：

韩国京畿道

IPC主分类号：

H04N5225

IPC分类号：

G02B300

代理机构：

北京弘权知识产权代理事务所(普通合伙) 11363

代理人：

李少丹;许伟群

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2018-02-06	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):H04N 5/225 申请日:20160516
2017-06-27	公开	公开
2020-04-28	授权	授权

共 50 条

[1]

光场成像装置 [P].

丁志宇 .

中国专利 :CN107509015A ,2017-12-22

[2]

光场成像装置 [P].

丁志宇 .

中国专利 :CN207200848U ,2018-04-06

[3]

光场成像模组 [P].

王兆民 ;

许星 .

中国专利 :CN207691911U ,2018-08-03

[4]

光场成像模组 [P].

王兆民 ;

许星 .

中国专利 :CN108174068A ,2018-06-15

[5]

具有光场图像传感器的成像设备 [P].

何端峰 ;

V·格尔维奇 ;

D·P·戈伦 ;

N-Q·樊 .

中国专利 :CN104137117A ,2014-11-05

[6]

光场成像系统的校准 [P].

马库斯·鲍姆加特 ;

蒂博尔·拜赖茨基 ;

亚克·普里博斯克 ;

扬·施泰因布伦纳 ;

安德烈亚斯·托尔特沙诺夫 .

:CN113412441B ,2024-09-24

[7]

光场成像系统的校准 [P].

马库斯·鲍姆加特 ;

蒂博尔·拜赖茨基 ;

亚克·普里博斯克 ;

扬·施泰因布伦纳 ;

安德烈亚斯·托尔特沙诺夫 .

中国专利 :CN113412441A ,2021-09-17

[8]

小体积的光场成像模组 [P].

王兆民 ;

许星 .

中国专利 :CN207691912U ,2018-08-03

[9]

透镜阵列及其制造方法、固态成像设备和电子设备 [P].

大塚洋一 ;

西木户健树 ;

葭叶一平 .

中国专利 :CN105556672B ,2016-05-04

[10]

光场成像系统 [P].

覃政 .

中国专利 :CN105635530B ,2016-06-01

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