导电膜的制造方法及导电膜

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201680030108.2

申请日：

2016-07-26

公开(公告)号：

CN107615408B

公开(公告)日：

2018-01-19

发明(设计)人：

鸟羽正彦内田博

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

H01B1300

IPC分类号：

H01B514 B32B7025 B82Y3000

代理机构：

北京市中咨律师事务所 11247

代理人：

马妮楠;段承恩

法律状态：

公开

国省代码：

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2018-01-19	公开	公开
2019-07-02	授权	授权
2018-02-13	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):H01B 13/00 申请日:20160726

共 50 条

[1]

导电膜及导电膜的制造方法 [P].

岸本谕卓 ;

深堀奏子 .

中国专利 :CN101542639A ,2009-09-23

[2]

导电膜的制造方法及制造装置以及导电膜 [P].

明日彻 .

中国专利 :CN103137267A ,2013-06-05

[3]

导电膜的制造方法及制造装置以及导电膜 [P].

明日彻 .

中国专利 :CN102165537A ,2011-08-24

[4]

导电材料、导电膜及它们的制造方法 [P].

北村隆之 .

中国专利 :CN101164122B ,2008-04-16

[5]

透明导电膜及透明导电膜的制造方法 [P].

深堀奏子 ;

岸本谕卓 .

中国专利 :CN101548343A ,2009-09-30

[6]

透明导电膜及透明导电膜的制造方法 [P].

北野高广 .

中国专利 :CN101669177A ,2010-03-10

[7]

透明导电膜及透明导电膜的制造方法 [P].

中川原修 ;

瀨戸弘之 ;

岸本諭卓 .

中国专利 :CN101180687A ,2008-05-14

[8]

透明导电膜用层叠体、透明导电膜、以及透明导电膜的制造方法 [P].

木下博贵 ;

永绳智史 .

中国专利 :CN115335224A ,2022-11-11

[9]

透明导电膜用层叠体、透明导电膜、以及透明导电膜的制造方法 [P].

木下博贵 ;

永绳智史 .

日本专利 :CN115335224B ,2025-01-03

[10]

透明导电膜的制造方法、透明导电膜的制造装置、溅射靶及透明导电膜 [P].

汤川富之 ;

武井応树 ;

小林大士 ;

赤松泰彦 ;

清田淳也 ;

增泽健二 ;

石桥晓 .

中国专利 :CN102666909A ,2012-09-12

← 1 2 3 4 5 →