实现更小线宽的光刻工艺

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201710190157.9

申请日：

2017-03-27

公开(公告)号：

CN106933064B

公开(公告)日：

2017-07-07

发明(设计)人：

张煜郑海昌朱骏

申请人：

申请人地址：

201203 上海市浦东新区张江开发区高斯路568号

IPC主分类号：

G03F720

IPC分类号：

H01L21033

代理机构：

上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237

代理人：

智云

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2018-11-09	授权	授权
2017-08-01	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101738374253 IPC(主分类):G03F 7/20 专利申请号:2017101901579 申请日:20170327
2017-07-07	公开	公开

共 50 条

[1]

一种更小线宽的光刻工艺 [P].

黄威 ;

王溯源 ;

蔡利康 ;

刘柱 ;

章军云 ;

黄念宁 ;

陈堂胜 .

中国专利 :CN111986988A ,2020-11-24

[2]

一种更小线宽的光刻工艺 [P].

黄威 ;

王溯源 ;

蔡利康 ;

刘柱 ;

章军云 ;

黄念宁 ;

陈堂胜 .

中国专利 :CN111986988B ,2024-05-28

[3]

光刻工艺方法 [P].

官锡俊 .

中国专利 :CN110767540A ,2020-02-07

[4]

光刻工艺方法 [P].

冷国庆 ;

邢会锋 ;

尹静娟 ;

陈倩 .

中国专利 :CN116072519B ,2025-12-09

[5]

光刻工艺方法 [P].

官锡俊 .

中国专利 :CN110632829A ,2019-12-31

[6]

光刻工艺方法 [P].

刘华明 .

中国专利 :CN110634732B ,2019-12-31

[7]

光刻工艺 [P].

李永尧 ;

王盈盈 ;

刘恒信 ;

林进祥 .

中国专利 :CN103543611B ,2014-01-29

[8]

光刻工艺的显影方法 [P].

杨光宇 .

中国专利 :CN101393401A ,2009-03-25

[9]

光刻工艺的显影方法 [P].

李燕 ;

曹亮 ;

杨正兵 ;

唐代华 ;

李磊 ;

张华 .

中国专利 :CN103424997B ,2013-12-04

[10]

进行光刻工艺的方法 [P].

黄启清 ;

颜子卿 ;

罗士杰 ;

吴文宗 .

中国专利 :CN101504510A ,2009-08-12

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