光刻工艺方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201911053214.4

申请日：

2019-10-31

公开(公告)号：

CN110632829A

公开(公告)日：

2019-12-31

发明(设计)人：

官锡俊

申请人：

申请人地址：

201315 上海市浦东新区中国（上海）自由贸易试验区康桥东路298号1幢1060室

IPC主分类号：

G03F720

IPC分类号：

G03F900

代理机构：

上海浦一知识产权代理有限公司 31211

代理人：

郭四华

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2020-01-24	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/20 申请日:20191031
2019-12-31	公开	公开
2022-11-18	发明专利申请公布后的驳回	发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):G03F 7/20 申请公布日:20191231

共 50 条

[1]

光刻工艺方法 [P].

官锡俊 .

中国专利 :CN110767540A ,2020-02-07

[2]

光刻工艺方法 [P].

冷国庆 ;

邢会锋 ;

尹静娟 ;

陈倩 .

中国专利 :CN116072519B ,2025-12-09

[3]

光刻工艺方法 [P].

刘华明 .

中国专利 :CN110634732B ,2019-12-31

[4]

光刻工艺涂胶方法 [P].

何至伟 ;

官锡俊 .

中国专利 :CN120161680A ,2025-06-17

[5]

光刻工艺方法 [P].

李伟峰 ;

王雷 .

中国专利 :CN105527798A ,2016-04-27

[6]

光刻工艺方法 [P].

游信胜 ;

余青芳 ;

王文娟 ;

许庭豪 ;

秦圣基 ;

严涛南 .

中国专利 :CN109307989B ,2019-02-05

[7]

光刻工艺 [P].

李永尧 ;

王盈盈 ;

刘恒信 ;

林进祥 .

中国专利 :CN103543611B ,2014-01-29

[8]

光刻工艺的显影方法 [P].

杨光宇 .

中国专利 :CN101393401A ,2009-03-25

[9]

光刻工艺的显影方法 [P].

李燕 ;

曹亮 ;

杨正兵 ;

唐代华 ;

李磊 ;

张华 .

中国专利 :CN103424997B ,2013-12-04

[10]

光刻工艺的显影方法 [P].

黄玮 .

中国专利 :CN102385262A ,2012-03-21

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