光刻工艺方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201810847468.2

申请日：

2018-07-27

公开(公告)号：

CN109307989B

公开(公告)日：

2019-02-05

发明(设计)人：

游信胜余青芳王文娟许庭豪秦圣基严涛南

申请人：

申请人地址：

中国台湾新竹市

IPC主分类号：

G03F720

IPC分类号：

代理机构：

隆天知识产权代理有限公司 72003

代理人：

黄艳

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2019-02-05	公开	公开
2022-08-09	授权	授权
2020-07-28	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/20 申请日:20180727

共 50 条

[1]

光刻工艺方法及极紫外线光刻工艺方法 [P].

游信胜 ;

余青芳 ;

王文娟 ;

许庭豪 ;

秦圣基 ;

严涛南 .

中国专利 :CN115047731A ,2022-09-13

[2]

光刻工艺方法 [P].

官锡俊 .

中国专利 :CN110767540A ,2020-02-07

[3]

光刻工艺方法 [P].

冷国庆 ;

邢会锋 ;

尹静娟 ;

陈倩 .

中国专利 :CN116072519B ,2025-12-09

[4]

光刻工艺方法 [P].

李伟峰 ;

王雷 .

中国专利 :CN105527798A ,2016-04-27

[5]

光刻工艺方法 [P].

官锡俊 .

中国专利 :CN110632829A ,2019-12-31

[6]

光刻工艺方法 [P].

刘华明 .

中国专利 :CN110634732B ,2019-12-31

[7]

光刻工艺 [P].

李永尧 ;

王盈盈 ;

刘恒信 ;

林进祥 .

中国专利 :CN103543611B ,2014-01-29

[8]

进行光刻工艺的方法 [P].

葛宗翰 ;

郑雅如 ;

张庆裕 ;

林进祥 .

中国专利 :CN109471329A ,2019-03-15

[9]

光刻工艺监测方法 [P].

李志杰 ;

黄世钧 ;

张世明 ;

谢艮轩 ;

严永松 ;

刘如淦 .

中国专利 :CN110967934B ,2020-04-07

[10]

光刻工艺涂胶方法 [P].

何至伟 ;

官锡俊 .

中国专利 :CN120161680A ,2025-06-17

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