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一种AMOLED用ITO-Ag-ITO蚀刻液
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201510832128.9
申请日
:
2015-11-25
公开(公告)号
:
CN105463463B
公开(公告)日
:
2016-04-06
发明(设计)人
:
栾成
殷福华
邵勇
赵文虎
李英
朱龙
顾玲燕
申请人
:
申请人地址
:
214400 江苏省无锡市江阴市周庄镇长寿云顾路581号
IPC主分类号
:
C23F130
IPC分类号
:
C09K1306
代理机构
:
江阴义海知识产权代理事务所(普通合伙) 32247
代理人
:
杜兴
法律状态
:
公开
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2016-04-06
公开
公开
2018-04-24
授权
授权
2016-05-04
实质审查的生效
实质审查的生效 号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101658479327 IPC(主分类):C23F 1/30 专利申请号:2015108321289 申请日:20151125
共 50 条
[1]
一种ITO-Ag-ITO蚀刻液及其制备方法和应用
[P].
赵建国
论文数:
0
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0
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机构:
合肥中聚和成光电材料股份有限公司
合肥中聚和成光电材料股份有限公司
赵建国
;
吴新清
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机构:
合肥中聚和成光电材料股份有限公司
合肥中聚和成光电材料股份有限公司
吴新清
;
王维康
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机构:
合肥中聚和成光电材料股份有限公司
合肥中聚和成光电材料股份有限公司
王维康
;
何烨谦
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机构:
合肥中聚和成光电材料股份有限公司
合肥中聚和成光电材料股份有限公司
何烨谦
;
黄德新
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机构:
合肥中聚和成光电材料股份有限公司
合肥中聚和成光电材料股份有限公司
黄德新
;
龚升
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机构:
合肥中聚和成光电材料股份有限公司
合肥中聚和成光电材料股份有限公司
龚升
.
中国专利
:CN120442254B
,2025-09-23
[2]
一种ITO-Ag-ITO蚀刻液及其制备方法和应用
[P].
赵建国
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机构:
合肥中聚和成光电材料股份有限公司
合肥中聚和成光电材料股份有限公司
赵建国
;
吴新清
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机构:
合肥中聚和成光电材料股份有限公司
合肥中聚和成光电材料股份有限公司
吴新清
;
王维康
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机构:
合肥中聚和成光电材料股份有限公司
合肥中聚和成光电材料股份有限公司
王维康
;
何烨谦
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机构:
合肥中聚和成光电材料股份有限公司
合肥中聚和成光电材料股份有限公司
何烨谦
;
黄德新
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机构:
合肥中聚和成光电材料股份有限公司
合肥中聚和成光电材料股份有限公司
黄德新
;
龚升
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机构:
合肥中聚和成光电材料股份有限公司
合肥中聚和成光电材料股份有限公司
龚升
.
中国专利
:CN120442254A
,2025-08-08
[3]
一种用于ITO/Ag/ITO多层薄膜的蚀刻液
[P].
康威
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康威
;
梁作
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梁作
;
赵大成
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赵大成
;
陈昊
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陈昊
.
中国专利
:CN104861980A
,2015-08-26
[4]
一种用于ITO/Ag/ITO薄膜的低张力的蚀刻液
[P].
康威
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康威
;
梁作
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梁作
;
赵大成
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赵大成
;
陈昊
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陈昊
.
中国专利
:CN104893728B
,2015-09-09
[5]
一种用于ITO-Ag-ITO导电薄膜的低黏度蚀刻液及其制备方法
[P].
胡涛
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胡涛
;
倪芸岚
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倪芸岚
;
高立江
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高立江
;
邢攸美
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邢攸美
;
龚升
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龚升
;
尹云舰
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尹云舰
;
方伟华
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方伟华
.
中国专利
:CN106479504B
,2017-03-08
[6]
一种用于ITO/Ag/ITO薄膜一步刻蚀的蚀刻液
[P].
庄英毅
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庄英毅
;
王雪刚
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王雪刚
;
其他发明人请求不公开姓名
论文数:
0
引用数:
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0
其他发明人请求不公开姓名
.
中国专利
:CN111286334A
,2020-06-16
[7]
一种ITO蚀刻液
[P].
王守飞
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机构:
合肥中聚和成电子材料有限公司
合肥中聚和成电子材料有限公司
王守飞
;
王维康
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机构:
合肥中聚和成电子材料有限公司
合肥中聚和成电子材料有限公司
王维康
;
何烨谦
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机构:
合肥中聚和成电子材料有限公司
合肥中聚和成电子材料有限公司
何烨谦
;
黄德新
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机构:
合肥中聚和成电子材料有限公司
合肥中聚和成电子材料有限公司
黄德新
;
龚升
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机构:
合肥中聚和成电子材料有限公司
合肥中聚和成电子材料有限公司
龚升
.
中国专利
:CN118406497A
,2024-07-30
[8]
一种ITO蚀刻液
[P].
王守飞
论文数:
0
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机构:
合肥中聚和成电子材料有限公司
合肥中聚和成电子材料有限公司
王守飞
;
王维康
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机构:
合肥中聚和成电子材料有限公司
合肥中聚和成电子材料有限公司
王维康
;
何烨谦
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机构:
合肥中聚和成电子材料有限公司
合肥中聚和成电子材料有限公司
何烨谦
;
黄德新
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机构:
合肥中聚和成电子材料有限公司
合肥中聚和成电子材料有限公司
黄德新
;
龚升
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机构:
合肥中聚和成电子材料有限公司
合肥中聚和成电子材料有限公司
龚升
.
中国专利
:CN118406497B
,2024-09-17
[9]
一种三步法ITO-Ag-ITO蚀刻液、其制备方法与应用
[P].
侯军
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机构:
浙江奥首材料科技有限公司
浙江奥首材料科技有限公司
侯军
;
彭仁杰
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机构:
浙江奥首材料科技有限公司
浙江奥首材料科技有限公司
彭仁杰
;
滕越
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机构:
浙江奥首材料科技有限公司
浙江奥首材料科技有限公司
滕越
;
邓璐瑶
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机构:
浙江奥首材料科技有限公司
浙江奥首材料科技有限公司
邓璐瑶
.
中国专利
:CN119144333A
,2024-12-17
[10]
一种AM‑OLED显示屏用ITO/Ag/ITO蚀刻液及制备方法
[P].
戈烨铭
论文数:
0
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0
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戈烨铭
.
中国专利
:CN105176533B
,2015-12-23
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