高分子电解质膜的制造方法及高分子电解质膜

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200780050495.7

申请日：

2007-11-26

公开(公告)号：

CN101589442A

公开(公告)日：

2009-11-25

发明(设计)人：

野殿光纪

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

H01B1300

IPC分类号：

C08G7523 C08G8100 C08J522 H01B106 H01M802 H01M810

代理机构：

中国专利代理(香港)有限公司

代理人：

张萍;李炳爱

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2010-01-20	实质审查的生效	实质审查的生效
2009-11-25	公开	公开
2013-05-08	专利权的视为放弃	专利权的视为放弃号牌文件类型代码:1606 号牌文件序号:101449332957 IPC(主分类):H01B 13/00 专利申请号:2007800504957 放弃生效日:20091125

共 50 条

[1]

高分子电解质膜的制造方法及高分子电解质膜 [P].

野殿光纪 .

中国专利 :CN101595537A ,2009-12-02

[2]

高分子电解质膜 [P].

井上祐一 ;

宫崎久远 ;

菊池健太朗 ;

浦冈伸树 ;

茶圆伸一 ;

小西智久 ;

伊野忠 .

中国专利 :CN110233277A ,2019-09-13

[3]

高分子电解质膜 [P].

井上祐一 ;

宫崎久远 ;

菊池健太朗 ;

浦冈伸树 ;

茶圆伸一 ;

小西智久 ;

伊野忠 .

中国专利 :CN105849958A ,2016-08-10

[4]

高分子电解质膜 [P].

井上祐一 ;

宫崎久远 ;

田中轨人 ;

菊池健太朗 ;

浦冈伸树 ;

茶圆伸一 ;

小西智久 ;

伊野忠 .

中国专利 :CN105794031A ,2016-07-20

[5]

高分子电解质膜 [P].

岩原大 ;

川田武史 ;

金坂将 .

中国专利 :CN101965660A ,2011-02-02

[6]

高分子电解质膜 [P].

川田武史 ;

金坂将 ;

岩原大 .

中国专利 :CN101965659A ,2011-02-02

[7]

高分子电解质膜 [P].

俊成谦太 ;

井手彩矢佳 ;

山下竹友 ;

小野友裕 ;

须乡望 .

中国专利 :CN104584297A ,2015-04-29

[8]

高分子电解质膜的制造方法 [P].

佐佐井孝介 ;

山口裕树 ;

坂口佳充 ;

北村幸太 ;

山下全广 .

中国专利 :CN101641818B ,2010-02-03

[9]

固体高分子电解质膜的制造方法、固体高分子电解质膜 [P].

石川雅彦 ;

高根朋幸 .

中国专利 :CN101730954A ,2010-06-09

[10]

复合高分子电解质膜 [P].

加藤一树 ;

佐久田淳司 .

中国专利 :CN110447135B ,2019-11-12

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