高分子电解质膜的制造方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200780048097.1

申请日：

2007-12-26

公开(公告)号：

CN101641818B

公开(公告)日：

2010-02-03

发明(设计)人：

佐佐井孝介山口裕树坂口佳充北村幸太山下全广

申请人：

申请人地址：

日本国大阪府

IPC主分类号：

H01M802

IPC分类号：

H01B1300 H01M810

代理机构：

中科专利商标代理有限责任公司 11021

代理人：

朱丹

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2010-02-03	公开	公开
2018-12-11	专利权的终止	未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H01M 8/02 申请日:20071226 授权公告日:20130313 终止日期:20171226
2013-03-13	授权	授权
2010-03-24	实质审查的生效	实质审查的生效

共 50 条

[1]

高分子电解质膜的制造方法及高分子电解质膜 [P].

野殿光纪 .

中国专利 :CN101589442A ,2009-11-25

[2]

高分子电解质膜的制造方法及高分子电解质膜 [P].

野殿光纪 .

中国专利 :CN101595537A ,2009-12-02

[3]

高分子电解质膜的制造方法 [P].

足立真哉 ;

原真弓 ;

川上智教 ;

希代圣幸 .

中国专利 :CN102282709B ,2011-12-14

[4]

固体高分子电解质膜的制造方法、固体高分子电解质膜 [P].

石川雅彦 ;

高根朋幸 .

中国专利 :CN101730954A ,2010-06-09

[5]

高分子电解质膜 [P].

井上祐一 ;

宫崎久远 ;

菊池健太朗 ;

浦冈伸树 ;

茶圆伸一 ;

小西智久 ;

伊野忠 .

中国专利 :CN105849958A ,2016-08-10

[6]

高分子电解质膜 [P].

井上祐一 ;

宫崎久远 ;

田中轨人 ;

菊池健太朗 ;

浦冈伸树 ;

茶圆伸一 ;

小西智久 ;

伊野忠 .

中国专利 :CN105794031A ,2016-07-20

[7]

高分子电解质膜 [P].

岩原大 ;

川田武史 ;

金坂将 .

中国专利 :CN101965660A ,2011-02-02

[8]

高分子电解质膜 [P].

川田武史 ;

金坂将 ;

岩原大 .

中国专利 :CN101965659A ,2011-02-02

[9]

高分子电解质膜 [P].

俊成谦太 ;

井手彩矢佳 ;

山下竹友 ;

小野友裕 ;

须乡望 .

中国专利 :CN104584297A ,2015-04-29

[10]

高分子电解质膜 [P].

井上祐一 ;

宫崎久远 ;

菊池健太朗 ;

浦冈伸树 ;

茶圆伸一 ;

小西智久 ;

伊野忠 .

中国专利 :CN110233277A ,2019-09-13

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