可循环使用的抛光液

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200810226466.8

申请日：

2008-11-12

公开(公告)号：

CN101392150A

公开(公告)日：

2009-03-25

发明(设计)人：

刘洪闵学勇邢政林

申请人：

申请人地址：

215300江苏省苏州市昆山开发区蓬朗章基路东

IPC主分类号：

C09G102

IPC分类号：

代理机构：

北京市京大律师事务所

代理人：

李光松

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2009-07-22	实质审查的生效	实质审查的生效
2009-03-25	公开	公开
2013-01-16	发明专利申请公布后的视为撤回	发明专利申请公布后的视为撤回号牌文件类型代码:1603 号牌文件序号:101495208290 IPC(主分类):H01L 21/304 专利申请号:2008102264668 申请公布日:20090325

共 50 条

[1]

钨抛光液 [P].

闵学勇 ;

邢振林 .

中国专利 :CN101781766A ,2010-07-21

[2]

一种可循环使用的硅片化学机械抛光液 [P].

王晗笑 ;

谢顺帆 ;

姜鉴哲 ;

付聚三 ;

刘圆 .

中国专利 :CN115851136B ,2025-01-24

[3]

晶圆精抛光液 [P].

闵学勇 ;

邢振林 .

中国专利 :CN101781524A ,2010-07-21

[4]

介电层抛光液 [P].

闵学勇 ;

邢振林 .

中国专利 :CN101781522A ,2010-07-21

[5]

晶圆粗抛光液 [P].

闵学勇 ;

邢振林 .

中国专利 :CN101781525A ,2010-07-21

[6]

抛光液及应用该抛光液对CdS晶片抛光的抛光方法 [P].

李晖 ;

徐永宽 ;

程红娟 .

中国专利 :CN102952467A ,2013-03-06

[7]

浅沟槽隔离抛光液 [P].

闵学勇 ;

邢振林 .

中国专利 :CN101781523A ,2010-07-21

[8]

施翊璇 ;

汤弢 .

中国专利 :CN116285697B ,2025-04-11

[9]

锗晶体化学机械抛光的抛光液及使用方法 [P].

牛新环 ;

檀柏梅 ;

王如 ;

孙鸣 ;

王胜利 .

中国专利 :CN104449404A ,2015-03-25

[10]

一种抛光液 [P].

蒋莉 ;

黎铭琦 .

中国专利 :CN102757731A ,2012-10-31

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