曝光装置以及器件制造方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200810082276.3

申请日：

2003-12-05

公开(公告)号：

CN101231477B

公开(公告)日：

2008-07-30

发明(设计)人：

马込伸贵高岩宏明荒井大

申请人：

申请人地址：

日本东京

IPC主分类号：

G03F720

IPC分类号：

H01L21027

代理机构：

中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038

代理人：

曲瑞

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2010-11-17	授权	授权
2008-09-24	实质审查的生效	实质审查的生效
2020-11-13	专利权的终止	未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G03F 7/20 申请日:20031205 授权公告日:20101117 终止日期:20191205
2008-07-30	公开	公开

共 50 条

[1]

曝光装置以及器件制造方法 [P].

马込伸贵 .

中国专利 :CN101241317B ,2008-08-13

[2]

曝光装置以及器件制造方法 [P].

马込伸贵 ;

高岩宏明 ;

荒井大 .

中国专利 :CN1723537A ,2006-01-18

[3]

曝光装置以及器件制造方法 [P].

马込伸贵 ;

高岩宏明 ;

荒井大 .

中国专利 :CN101231476B ,2008-07-30

[4]

基板处理装置、器件制造方法、扫描曝光方法、曝光装置、器件制造系统以及器件制造方法 [P].

加藤正纪 ;

铃木智也 ;

鬼头义昭 ;

堀正和 ;

林田洋祐 ;

木内彻 .

中国专利 :CN105339846A ,2016-02-17

[5]

曝光装置、曝光方法以及器件制造方法 [P].

长坂博之 .

中国专利 :CN106873316A ,2017-06-20

[6]

曝光装置、曝光方法以及器件制造方法 [P].

长坂博之 .

中国专利 :CN101354540A ,2009-01-28

[7]

曝光装置、曝光方法以及器件制造方法 [P].

水谷刚之 .

中国专利 :CN100539019C ,2007-08-15

[8]

曝光方法、曝光装置以及器件制造方法 [P].

蛭川茂 .

中国专利 :CN101614966A ,2009-12-30

[9]

曝光装置、曝光方法以及器件制造方法 [P].

冈田尚也 .

中国专利 :CN101069265A ,2007-11-07

[10]

曝光装置、曝光方法以及器件制造方法 [P].

长坂博之 ;

大和壮一 ;

西井康文 .

中国专利 :CN1754250A ,2006-03-29

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