研磨剂、研磨剂组和基体的研磨方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201710996717.X

申请日：

2013-02-14

公开(公告)号：

CN107617968A

公开(公告)日：

2018-01-23

发明(设计)人：

阿久津利明南久贵岩野友洋藤崎耕司

申请人：

申请人地址：

日本国东京都千代田区丸之内一丁目9番2号

IPC主分类号：

B24B3700

IPC分类号：

C09G102 C09K314 H01L21306 H01L213105 H01L21762

代理机构：

上海华诚知识产权代理有限公司 31300

代理人：

汤国华

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2018-01-23	公开	公开
2018-02-16	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):B24B 37/00 申请日:20130214

共 50 条

[1]

研磨剂、研磨剂组和基体的研磨方法 [P].

阿久津利明 ;

南久贵 ;

岩野友洋 ;

藤崎耕司 .

日本专利 :CN108831830B ,2024-05-17

[2]

研磨剂、研磨剂组和基体的研磨方法 [P].

阿久津利明 ;

南久贵 ;

岩野友洋 ;

藤崎耕司 .

中国专利 :CN108831830A ,2018-11-16

[3]

研磨剂、研磨剂组和基体的研磨方法 [P].

阿久津利明 ;

南久贵 ;

岩野友洋 ;

藤崎耕司 .

中国专利 :CN104137232A ,2014-11-05

[4]

研磨剂、研磨剂套剂及基体的研磨方法 [P].

阿久津利明 ;

南久贵 ;

岩野友洋 ;

藤崎耕司 .

中国专利 :CN104582899A ,2015-04-29

[5]

研磨剂、研磨剂组件及使用该研磨剂的基板研磨方法 [P].

星阳介 ;

龙崎大介 ;

小山直之 ;

野部茂 .

中国专利 :CN105368397A ,2016-03-02

[6]

研磨剂、研磨剂组件及使用该研磨剂的基板研磨方法 [P].

星阳介 ;

龙崎大介 ;

小山直之 ;

野部茂 .

中国专利 :CN107199502A ,2017-09-26

[7]

研磨剂及使用该研磨剂的基板研磨方法 [P].

星阳介 ;

龙崎大介 ;

小山直之 ;

野部茂 .

中国专利 :CN104178088A ,2014-12-03

[8]

研磨剂及使用该研磨剂的基板研磨方法 [P].

星阳介 ;

龙崎大介 ;

小山直之 ;

野部茂 .

中国专利 :CN102766407B ,2012-11-07

[9]

研磨剂及使用该研磨剂的基板研磨方法 [P].

星阳介 ;

龙崎大介 ;

小山直之 ;

野部茂 .

中国专利 :CN102017091A ,2011-04-13

[10]

研磨剂、研磨剂用添加液和研磨方法 [P].

福井宏佳 .

日本专利 :CN118435326A ,2024-08-02

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