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一种高场强高靶材利用率的阴极
被引：0
专利类型：
实用新型
申请号：
CN201920349203.X
申请日：
2019-03-19
公开(公告)号：
CN209974873U
公开(公告)日：
2020-01-21
发明(设计)人：
张奇龙
李伟
申请人：
申请人地址：
310000 浙江省杭州市余杭区良渚街道纳贤街3号1幢4楼
IPC主分类号：
C23C1435
IPC分类号：
代理机构：
代理人：
法律状态：
授权
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2020-01-21 | 授权 | 授权 |