光学元件及光学元件的制作方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201880081666.0

申请日：

2018-12-27

公开(公告)号：

CN111492297A

公开(公告)日：

2020-08-04

发明(设计)人：

山田泰美平井利博

申请人：

申请人地址：

日本大阪府

IPC主分类号：

G02B2600

IPC分类号：

G02B300 G02B314 G02B502 G02B2608 G03B1500

代理机构：

北京市金杜律师事务所 11256

代理人：

杨宏军

法律状态：

发明专利申请公布后的视为撤回

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2022-09-23	发明专利申请公布后的视为撤回	发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):G02B 26/00 申请公布日:20200804
2020-12-29	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):G02B 26/00 申请日:20181227
2020-08-04	公开	公开

共 50 条

[1]

光学元件、微透镜阵列、及光学元件的制作方法 [P].

山田泰美 ;

平井利博 .

中国专利 :CN111512209A ,2020-08-07

[2]

光学元件、光学装置以及光学元件的制作方法 [P].

程桂亮 ;

吾晓 ;

张景 ;

王必昌 .

中国专利 :CN107797298A ,2018-03-13

[3]

光学元件制作方法与用于此的沉积液及光学元件制造装置 [P].

清水敬司 ;

大津茂实 ;

谷田和敏 ;

圷英一 .

中国专利 :CN1299135C ,2004-01-14

[4]

光学元件的制作方法及光学感应装置 [P].

吴志彦 ;

何政达 ;

吴建宏 .

中国专利 :CN108960021A ,2018-12-07

[5]

立体光学元件及其制作方法 [P].

郑新安 ;

黄良莹 .

中国专利 :CN102109631B ,2011-06-29

[6]

光学元件及其制作方法 [P].

阿部进 .

中国专利 :CN106997064B ,2017-08-01

[7]

电位移材料、使用其的光学元件、微透镜阵列、及光学元件的制作方法 [P].

山田泰美 ;

江守秀之 ;

平井利博 .

中国专利 :CN113260896A ,2021-08-13

[8]

衍射光学元件结构及制作方法 [P].

李凡月 .

中国专利 :CN107300731A ,2017-10-27

[9]

曲面光学元件及制作方法 [P].

陈泽武 .

中国专利 :CN1151511C ,2002-02-20

[10]

光学元件的制造方法及光学元件 [P].

平等拓范 ;

考萨斯·阿维达斯 ;

郑丽和 .

中国专利 :CN114008871A ,2022-02-01

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