光学元件制作方法与用于此的沉积液及光学元件制造装置

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN03109377.9

申请日：

2003-04-08

公开(公告)号：

CN1299135C

公开(公告)日：

2004-01-14

发明(设计)人：

清水敬司大津茂实谷田和敏圷英一

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

G02B520

IPC分类号：

C25D1300 C25D508

代理机构：

北京集佳知识产权代理有限公司

代理人：

王学强

法律状态：

专利权的终止

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2019-03-29	专利权的终止	未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G02B 5/20 申请日:20030408 授权公告日:20070207 终止日期:20180408
2004-08-25	实质审查的生效	实质审查的生效
2004-01-14	公开	公开
2007-02-07	授权	授权

共 50 条

[1]

光学元件及光学元件的制作方法 [P].

山田泰美 ;

平井利博 .

中国专利 :CN111492297A ,2020-08-04

[2]

光学元件、微透镜阵列、及光学元件的制作方法 [P].

山田泰美 ;

平井利博 .

中国专利 :CN111512209A ,2020-08-07

[3]

光学元件、光学装置以及光学元件的制作方法 [P].

程桂亮 ;

吾晓 ;

张景 ;

王必昌 .

中国专利 :CN107797298A ,2018-03-13

[4]

光学元件的制造方法及光学元件的制造装置 [P].

速水俊一 ;

坂田忠文 .

中国专利 :CN101980978A ,2011-02-23

[5]

光学元件的制造装置及光学元件的制造方法 [P].

福田繁树 ;

小见川贤辉 ;

坂井亮介 ;

桑原润一 .

中国专利 :CN101293728B ,2008-10-29

[6]

光学元件的制造装置及光学元件的制造方法 [P].

汤浅清司 ;

芦田修平 ;

名古屋浩 .

中国专利 :CN103827049A ,2014-05-28

[7]

光学元件的制造方法、光学元件和用于制造光学元件的装置 [P].

米哈伊尔·埃尔德马尼斯 .

中国专利 :CN115698779A ,2023-02-03

[8]

光学元件制造装置的控制方法、光学元件的制造方法和光学元件制造装置 [P].

广濑生典 .

中国专利 :CN108137366A ,2018-06-08

[9]

光学元件制造方法以及光学元件制造装置 [P].

本司大典 .

中国专利 :CN102884013B ,2014-12-24

[10]

光学元件制造方法以及光学元件制造装置 [P].

澁木宏行 .

中国专利 :CN102372417A ,2012-03-14

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