微波等离子体化学气相沉积装置

被引：0

申请号：

CN202230488867.1

申请日：

2022-07-28

公开(公告)号：

CN307770853S

公开(公告)日：

2023-01-03

发明(设计)人：

唐挺刘艺昭王曙光

申请人：

申请人地址：

610000 四川省成都市高新区高朋大道5号1栋106号

IPC主分类号：

2401

IPC分类号：

代理机构：

成都嘉企源知识产权代理有限公司 51246

代理人：

吴宇

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2023-01-03	授权	授权

共 50 条

[1]

微波等离子体化学气相沉积装置 [P].

牛进毅 ;

苗岱 .

中国专利 :CN111910170B ,2025-01-14

[2]

微波等离子体化学气相沉积装置 [P].

马懿 ;

马修·L·斯卡林 ;

朱金华 ;

吴建新 ;

缪勇 ;

卢荻 ;

艾永干 ;

克里斯托弗·E·格里芬 .

中国专利 :CN208167149U ,2018-11-30

[3]

微波等离子体化学气相沉积装置 [P].

朱铧丞 ;

杨阳 ;

黄卡玛 .

中国专利 :CN211947216U ,2020-11-17

[4]

微波等离子体化学气相沉积装置 [P].

牛进毅 ;

苗岱 .

中国专利 :CN111910170A ,2020-11-10

[5]

微波等离子体化学气相沉积装置 [P].

牛进毅 ;

苗岱 .

中国专利 :CN212505057U ,2021-02-09

[6]

微波等离子体化学气相沉积装置 [P].

马懿 ;

马修·L·斯卡林 ;

朱金华 ;

吴建新 ;

缪勇 ;

卢荻 ;

艾永干 ;

克里斯托弗·E·格里芬 .

中国专利 :CN209522923U ,2019-10-22

[7]

微波等离子体化学气相沉积装置 [P].

涂溶 ;

徐伟清 ;

章嵩 ;

张联盟 .

中国专利 :CN105239057A ,2016-01-13

[8]

微波等离子体化学气相沉积装置 [P].

松山深照 .

中国专利 :CN1026133C ,1990-06-27

[9]

微波等离子体化学气相沉积装置 [P].

马懿 ;

马修·L·斯卡林 ;

朱金华 ;

吴建新 ;

缪勇 ;

卢荻 ;

艾永干 ;

克里斯托弗·E·格里芬 .

中国专利 :CN209522921U ,2019-10-22

[10]

微波等离子体化学气相沉积装置 [P].

马懿 ;

马修·L·斯卡林 ;

朱金华 ;

吴建新 ;

缪勇 ;

卢荻 ;

艾永干 .

中国专利 :CN209522922U ,2019-10-22

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