形成光变换性有机薄膜的新型化合物和有机薄膜形成体

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专利类型
发明
申请号
CN200480003017.7
申请日
2004-01-30
公开(公告)号
CN1745088A
公开(公告)日
2006-03-08
发明(设计)人
佐宗春男 藤田佳孝 高桥敏明
申请人
申请人地址
日本国东京都
IPC主分类号
C07F718
IPC分类号
C07F938 G03F7004
代理机构
北京集佳知识产权代理有限公司
代理人
徐谦
法律状态
专利权的终止
国省代码
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共 50 条
[1]
有机硅化合物、使用其的薄膜形成用组合物以及有机薄膜 [P]. 
高桥敏明 ;
肥高友也 ;
浅沼大右 .
中国专利 :CN104395327A ,2015-03-04
[2]
稠环化合物及其制造方法、聚合物、含有它们的有机薄膜以及具备该有机薄膜的有机薄膜元件及有机薄膜晶体管 [P]. 
三浦雅博 ;
佐藤哲也 ;
渡边博之 ;
上田将人 .
中国专利 :CN101415715A ,2009-04-22
[3]
有机薄膜形成用溶液及使用该溶液的有机薄膜形成方法 [P]. 
肥高友也 ;
岛田干也 .
中国专利 :CN106103455A ,2016-11-09
[4]
新型的化合物、薄膜形成用原料和薄膜的制造方法 [P]. 
吉野智晴 ;
远津正挥 ;
西田章浩 ;
杉浦奈奈 .
中国专利 :CN107531734A ,2018-01-02
[5]
稠环化合物及其制造方法、聚合物、含有其的有机薄膜及具有该有机薄膜的有机薄膜元件和有机薄膜晶体管 [P]. 
三浦雅博 ;
佐藤哲也 ;
剑隼人 ;
熊谷淳 ;
上田将人 .
中国专利 :CN101945878A ,2011-01-12
[6]
有机薄膜晶体管用化合物和使用其的有机薄膜晶体管 [P]. 
齐藤雅俊 ;
中野裕基 ;
中村浩昭 ;
近藤浩史 .
中国专利 :CN102137830A ,2011-07-27
[7]
用于薄膜沉积的有机锡化合物和用该化合物形成含锡薄膜的方法 [P]. 
沈樟根 ;
池成俊 ;
李太荣 ;
金信范 ;
白善英 ;
林泰焕 ;
李东均 ;
李尙炫 ;
千寿弼 .
中国专利 :CN115490720A ,2022-12-20
[8]
薄膜形成用原料、薄膜的制造方法以及新型化合物 [P]. 
西田章浩 ;
冈田奈奈 ;
大江佳毅 .
中国专利 :CN110799665A ,2020-02-14
[9]
薄膜形成用原料、薄膜的制造方法以及新型化合物 [P]. 
西田章浩 ;
冈田奈奈 ;
大江佳毅 .
日本专利 :CN110799665B ,2025-10-24
[10]
有机薄膜形成方法、有机薄膜形成用辅助剂和有机薄膜形成用溶液 [P]. 
木村信夫 ;
藤田佳孝 ;
肥高友也 .
中国专利 :CN1988965B ,2007-06-27