新型的化合物、薄膜形成用原料和薄膜的制造方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201680025896.6

申请日：

2016-05-17

公开(公告)号：

CN107531734A

公开(公告)日：

2018-01-02

发明(设计)人：

吉野智晴远津正挥西田章浩杉浦奈奈

申请人：

申请人地址：

日本东京

IPC主分类号：

C07F1300

IPC分类号：

C07F1504 C07F1506 C23C1618 H01L21285

代理机构：

中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038

代理人：

何杨

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2018-02-02	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):C07F 13/00 申请日:20160517
2018-01-02	公开	公开
2020-08-11	发明专利申请公布后的视为撤回	发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):C07F 13/00 申请公布日:20180102

共 50 条

[1]

金属醇盐化合物、薄膜形成用原料、薄膜的制造方法和醇化合物 [P].

樱井淳 ;

畑濑雅子 ;

山田直树 ;

白鸟翼 ;

斋藤昭夫 ;

吉野智晴 .

中国专利 :CN104470892B ,2015-03-25

[2]

薄膜形成用原料、薄膜的制造方法以及新型化合物 [P].

西田章浩 ;

冈田奈奈 ;

大江佳毅 .

中国专利 :CN110799665A ,2020-02-14

[3]

薄膜形成用原料、薄膜的制造方法以及新型化合物 [P].

西田章浩 ;

冈田奈奈 ;

大江佳毅 .

日本专利 :CN110799665B ,2025-10-24

[4]

烷氧基化合物、薄膜形成用原料和薄膜的制造方法 [P].

山田直树 ;

樱井淳 .

中国专利 :CN101065349A ,2007-10-31

[5]

化合物、薄膜形成用原料和薄膜的制造方法 [P].

斋藤昭夫 ;

青木雄太郎 .

中国专利 :CN114787168A ,2022-07-22

[6]

烷氧基金属化合物、薄膜形成用原料和薄膜的制造方法 [P].

佐藤宏树 ;

樱井淳 .

中国专利 :CN1914150A ,2007-02-14

[7]

锌化合物、薄膜形成用原料、薄膜及其制造方法 [P].

福岛亮太 ;

武田圭介 ;

远津正挥 .

中国专利 :CN115362157A ,2022-11-18

[8]

脒基化合物、其二聚体化合物、薄膜形成用原料以及薄膜的制造方法 [P].

吉野智晴 ;

大江佳毅 ;

武田圭介 ;

福岛亮太 ;

满井千瑛 ;

山下敦史 .

中国专利 :CN115380038A ,2022-11-22

[9]

金属化合物、薄膜形成用原料及薄膜的制造方法 [P].

芳仲笃也 ;

樱井淳 .

中国专利 :CN101052615B ,2007-10-10

[10]

钨化合物、薄膜形成用原料和薄膜的制造方法 [P].

斋藤昭夫 ;

白鸟翼 ;

青木雄太郎 .

中国专利 :CN110831950B ,2020-02-21

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