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基板处理系统
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202080037700.1
申请日
:
2020-05-20
公开(公告)号
:
CN113853275A
公开(公告)日
:
2021-12-28
发明(设计)人
:
鸟越恒男
畠山雅规
中迂良
申请人
:
申请人地址
:
日本国东京都大田区羽田旭町11番1号
IPC主分类号
:
B24B37005
IPC分类号
:
B24B3720
B24B3734
B24B4900
B24B5100
B24B5702
代理机构
:
上海华诚知识产权代理有限公司 31300
代理人
:
张丽颖
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2022-01-14
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):B24B 37/005 申请日:20200520
2021-12-28
公开
公开
共 50 条
[1]
基板处理装置及信息处理系统
[P].
铃木佑多
论文数:
0
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0
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机构:
株式会社荏原制作所
株式会社荏原制作所
铃木佑多
;
高桥广毅
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机构:
株式会社荏原制作所
株式会社荏原制作所
高桥广毅
;
中村显
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机构:
株式会社荏原制作所
株式会社荏原制作所
中村显
;
渡边和英
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机构:
株式会社荏原制作所
株式会社荏原制作所
渡边和英
;
松尾尚典
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机构:
株式会社荏原制作所
株式会社荏原制作所
松尾尚典
;
神子岛隆仁
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机构:
株式会社荏原制作所
株式会社荏原制作所
神子岛隆仁
.
日本专利
:CN117501414A
,2024-02-02
[2]
自主基板处理系统
[P].
P·潘达
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机构:
应用材料公司
应用材料公司
P·潘达
;
连磊
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机构:
应用材料公司
应用材料公司
连磊
;
韩鹏昱
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机构:
应用材料公司
应用材料公司
韩鹏昱
;
T·J·伊根
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机构:
应用材料公司
应用材料公司
T·J·伊根
;
P·阿吉
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机构:
应用材料公司
应用材料公司
P·阿吉
;
E·莫
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应用材料公司
应用材料公司
E·莫
;
A·J·汤姆
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机构:
应用材料公司
应用材料公司
A·J·汤姆
;
L·M·泰德斯奇
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机构:
应用材料公司
应用材料公司
L·M·泰德斯奇
.
美国专利
:CN118522667A
,2024-08-20
[3]
自主基板处理系统
[P].
P·潘达
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机构:
应用材料公司
应用材料公司
P·潘达
;
连磊
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机构:
应用材料公司
应用材料公司
连磊
;
韩鹏昱
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机构:
应用材料公司
应用材料公司
韩鹏昱
;
T·J·伊根
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应用材料公司
应用材料公司
T·J·伊根
;
P·阿吉
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机构:
应用材料公司
应用材料公司
P·阿吉
;
E·莫
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机构:
应用材料公司
应用材料公司
E·莫
;
A·J·汤姆
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机构:
应用材料公司
应用材料公司
A·J·汤姆
;
L·M·泰德斯奇
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机构:
应用材料公司
应用材料公司
L·M·泰德斯奇
.
美国专利
:CN116802780B
,2024-05-31
[4]
信息处理方法、信息处理装置、以及基板处理系统
[P].
齐藤友贵哉
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
齐藤友贵哉
;
片冈勇树
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
片冈勇树
.
日本专利
:CN117882170A
,2024-04-12
[5]
支援装置、支援方法、基板处理系统及存储介质
[P].
池内崇
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机构:
株式会社斯库林集团
株式会社斯库林集团
池内崇
;
佐野雄大
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机构:
株式会社斯库林集团
株式会社斯库林集团
佐野雄大
.
日本专利
:CN117763212A
,2024-03-26
[6]
基板处理装置以及基板处理系统
[P].
桥本光治
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机构:
株式会社斯库林集团
株式会社斯库林集团
桥本光治
;
清水进二
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机构:
株式会社斯库林集团
株式会社斯库林集团
清水进二
;
堀口博司
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机构:
株式会社斯库林集团
株式会社斯库林集团
堀口博司
;
山本真弘
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机构:
株式会社斯库林集团
株式会社斯库林集团
山本真弘
.
日本专利
:CN118969676A
,2024-11-15
[7]
基板处理装置以及基板处理系统
[P].
桥本光治
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桥本光治
;
清水进二
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清水进二
;
堀口博司
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堀口博司
;
山本真弘
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0
山本真弘
.
中国专利
:CN112400214A
,2021-02-23
[8]
基板处理装置以及基板处理系统
[P].
桥本光治
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机构:
株式会社斯库林集团
株式会社斯库林集团
桥本光治
;
清水进二
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机构:
株式会社斯库林集团
株式会社斯库林集团
清水进二
;
堀口博司
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机构:
株式会社斯库林集团
株式会社斯库林集团
堀口博司
;
山本真弘
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机构:
株式会社斯库林集团
株式会社斯库林集团
山本真弘
.
日本专利
:CN112400214B
,2024-08-20
[9]
基板处理方法、基板处理装置及基板处理系统
[P].
渡边敏史
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渡边敏史
;
山本晓
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0
山本晓
;
町田优
论文数:
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0
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町田优
.
中国专利
:CN108705383A
,2018-10-26
[10]
基板处理系统
[P].
絏竣淏
论文数:
0
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絏竣淏
.
中国专利
:CN106298589A
,2017-01-04
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