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薄片后处理装置
被引：0
专利类型：
实用新型
申请号：
CN201621315571.5
申请日：
2016-12-02
公开(公告)号：
CN206327976U
公开(公告)日：
2017-07-14
发明(设计)人：
泷裕之
申请人：
申请人地址：
日本东京都
IPC主分类号：
B65H3132
IPC分类号：
B65H3134
代理机构：
北京和信华成知识产权代理事务所(普通合伙) 11390
代理人：
胡剑辉
法律状态：
授权
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2017-07-14 | 授权 | 授权 |