等离子体处理装置及等离子体处理方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201511003672.9

申请日：

2015-12-29

公开(公告)号：

CN106937472A

公开(公告)日：

2017-07-07

发明(设计)人：

周虎刘身健谢小兵严利均

申请人：

申请人地址：

201201 上海市浦东新区金桥出口加工区（南区）泰华路188号

IPC主分类号：

H05H146

IPC分类号：

代理机构：

上海信好专利代理事务所(普通合伙) 31249

代理人：

徐雯琼;张静洁

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2017-07-07	公开	公开
2020-03-27	发明专利申请公布后的驳回	发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):H05H 1/46 申请公布日:20170707
2019-04-09	著录事项变更	著录事项变更 IPC(主分类):H05H 1/46 变更事项:申请人变更前:中微半导体设备（上海）有限公司变更后:中微半导体设备（上海）股份有限公司变更事项:地址变更前:201201 上海市浦东新区金桥出口加工区（南区）泰华路188号变更后:201201 上海市浦东新区金桥出口加工区（南区）泰华路188号
2017-08-01	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101738376941 IPC(主分类):H05H 1/46 专利申请号:2015110036729 申请日:20151229

共 50 条

[1]

等离子体处理装置及等离子体处理方法 [P].

叶如彬 ;

倪图强 .

中国专利 :CN103476196A ,2013-12-25

[2]

等离子体处理装置及等离子体处理方法 [P].

叶如彬 ;

梁洁 ;

浦远 .

中国专利 :CN104733278A ,2015-06-24

[3]

等离子体处理方法及等离子体处理装置 [P].

三浦繁博 ;

加藤寿 ;

佐藤润 ;

中坪敏行 ;

菊地宏之 .

中国专利 :CN105097459A ,2015-11-25

[4]

等离子体处理方法及等离子体处理装置 [P].

妻屋圆 ;

寺井弘和 .

日本专利 :CN119072771A ,2024-12-03

[5]

等离子体处理装置及等离子体处理方法 [P].

岩井哲博 ;

古川良太 .

中国专利 :CN1175477C ,2002-11-20

[6]

等离子体处理装置及等离子体处理方法 [P].

平山昌树 ;

大见忠弘 .

中国专利 :CN102057762A ,2011-05-11

[7]

等离子体处理装置、及等离子体处理方法 [P].

吉森大晃 ;

嘉瀬庆久 ;

中泽和辉 .

中国专利 :CN115116813A ,2022-09-27

[8]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

镰田英纪 ;

池田太郎 ;

佐藤干夫 ;

山本伸彦 .

日本专利 :CN112788826B ,2024-09-13

[9]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

西野雅 ;

真壁正嗣 ;

长山将之 ;

半田达也 ;

绿川良太郎 ;

小林启悟 ;

仁矢铁也 .

中国专利 :CN103959447A ,2014-07-30

[10]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

阪根亮太 ;

小林秀行 ;

长畑寿 ;

罗重佑 .

中国专利 :CN108172493B ,2018-06-15

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