一种研磨后晶片清洗装置

被引：0

申请号：

CN202220280837.6

申请日：

2022-02-11

公开(公告)号：

CN217222628U

公开(公告)日：

2022-08-19

发明(设计)人：

高志冰郑东

申请人：

申请人地址：

266000 山东省青岛市高新区河东路383号

IPC主分类号：

B08B302

IPC分类号：

B08B502 B08B308

代理机构：

北京天盾知识产权代理有限公司 11421

代理人：

厉武

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2022-08-19	授权	授权

共 50 条

[1]

一种用于碳化硅晶片研磨后的清洗装置 [P].

贺贤汉 ;

周杰 ;

李有群 ;

陈辉 ;

孙大方 .

中国专利 :CN216504318U ,2022-05-13

[2]

一种用于碳化硅晶片研磨后的清洗装置 [P].

陈宇翔 ;

翟会阳 ;

李永波 ;

李纪宏 .

中国专利 :CN221288837U ,2024-07-09

[3]

一种用于碳化硅晶片研磨后的清洗装置 [P].

元利勇 ;

王玉茹 ;

曾昊 ;

张珂 ;

李帅 .

中国专利 :CN209577563U ,2019-11-05

[4]

一种晶片腐蚀清洗装置 [P].

毕洪伟 .

中国专利 :CN215118835U ,2021-12-10

[5]

一种玻璃制品研磨后清洗装置 [P].

何腾平 ;

韩增旺 .

中国专利 :CN209393697U ,2019-09-17

[6]

一种用于研磨钢瓶后的清洗装置 [P].

谈益强 .

中国专利 :CN210847554U ,2020-06-26

[7]

一种铅锭连续清洗装置 [P].

胡国柱 ;

李丹 ;

田庆山 .

中国专利 :CN205437115U ,2016-08-10

[8]

一种晶片清洗装置 [P].

张程 .

中国专利 :CN220895470U ,2024-05-03

[9]

一种晶片清洗装置 [P].

谢尚平 ;

毛毅 ;

吴延剑 .

中国专利 :CN207592401U ,2018-07-10

[10]

一种晶片清洗装置 [P].

王现刚 ;

顾新军 .

中国专利 :CN208960500U ,2019-06-11

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