一种用于研磨钢瓶后的清洗装置

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专利类型
实用新型
申请号
CN201921652380.1
申请日
2019-09-30
公开(公告)号
CN210847554U
公开(公告)日
2020-06-26
发明(设计)人
谈益强
申请人
申请人地址
314400 浙江省嘉兴市海宁市周王庙镇之江路30号
IPC主分类号
B08B928
IPC分类号
代理机构
嘉兴海创专利代理事务所(普通合伙) 33251
代理人
郑文涛
法律状态
授权
国省代码
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共 50 条
[1]
一种用于碳化硅晶片研磨后的清洗装置 [P]. 
贺贤汉 ;
周杰 ;
李有群 ;
陈辉 ;
孙大方 .
中国专利 :CN216504318U ,2022-05-13
[2]
一种用于LCD研磨后清洗风干的装置 [P]. 
张少飞 ;
薛诚 .
中国专利 :CN208076854U ,2018-11-09
[3]
一种用于钢瓶的研磨装置 [P]. 
谈益强 .
中国专利 :CN210849731U ,2020-06-26
[4]
一种研磨后晶片清洗装置 [P]. 
高志冰 ;
郑东 .
中国专利 :CN217222628U ,2022-08-19
[5]
一种用于叶轮研磨后清洗的装置 [P]. 
黄国尧 ;
何建洪 ;
章上营 .
中国专利 :CN208928691U ,2019-06-04
[6]
一种钢瓶高效清洗装置 [P]. 
石文均 ;
杨洋 .
中国专利 :CN216728674U ,2022-06-14
[7]
一种用于化学机械研磨的清洗装置 [P]. 
李武祥 ;
程建秀 .
中国专利 :CN213558800U ,2021-06-29
[8]
一种用于碳化硅晶片研磨后的清洗装置 [P]. 
陈宇翔 ;
翟会阳 ;
李永波 ;
李纪宏 .
中国专利 :CN221288837U ,2024-07-09
[9]
一种用于碳化硅晶片研磨后的清洗装置 [P]. 
元利勇 ;
王玉茹 ;
曾昊 ;
张珂 ;
李帅 .
中国专利 :CN209577563U ,2019-11-05
[10]
一种用于抛光后晶体的清洗装置 [P]. 
赵修强 ;
冯骥 ;
翟娜娜 ;
周婧 .
中国专利 :CN217857602U ,2022-11-22