一种用于抛光后晶体的清洗装置

被引:0
申请号
CN202220903990.X
申请日
2022-04-19
公开(公告)号
CN217857602U
公开(公告)日
2022-11-22
发明(设计)人
赵修强 冯骥 翟娜娜 周婧
申请人
申请人地址
250000 山东省济南市历下区化纤厂路13号院内西院北车间2号厂房
IPC主分类号
B08B302
IPC分类号
B08B104 B08B1300
代理机构
天津市君砚知识产权代理有限公司 12239
代理人
刘伟杰
法律状态
授权
国省代码
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共 50 条
[1]
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[3]
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[5]
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[9]
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