多层电子组件及其制造方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN201410135981.0
申请日
2014-04-04
公开(公告)号
CN104766690A
公开(公告)日
2015-07-08
发明(设计)人
林凤燮
申请人
申请人地址
韩国京畿道水原市
IPC主分类号
H01F1700
IPC分类号
H01F3700 H01F2728 H01F2729 H01F4100
代理机构
北京铭硕知识产权代理有限公司 11286
代理人
刘灿强;谭昌驰
法律状态
公开
国省代码
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共 50 条
[1]
多层电子组件及其制造方法 [P]. 
韩准兑 ;
尹瑄浩 ;
金正烈 ;
俞明花 ;
吴泳俊 ;
朴璱雅 .
中国专利 :CN114156086A ,2022-03-08
[2]
多层电子组件及其制造方法 [P]. 
洪容珉 ;
洪奇杓 .
中国专利 :CN110634676A ,2019-12-31
[3]
多层电子组件及其制造方法 [P]. 
赵珉贞 ;
金昞建 ;
吴由弘 .
中国专利 :CN114551094A ,2022-05-27
[4]
多层电子组件及其制造方法 [P]. 
韩准兑 ;
尹瑄浩 ;
金正烈 ;
俞明花 ;
吴泳俊 ;
朴璱雅 .
韩国专利 :CN114156086B ,2025-07-04
[5]
多层电子组件及其制造方法 [P]. 
郑东俊 ;
金润 ;
金显 ;
姜心忠 ;
李银贞 .
中国专利 :CN114765095A ,2022-07-19
[6]
多层电子组件及其制造方法 [P]. 
郑在勋 ;
罗炫雄 ;
车润聢 .
中国专利 :CN114551102A ,2022-05-27
[7]
多层电子组件及其制造方法 [P]. 
田镐仁 ;
权成珉 .
韩国专利 :CN120032996A ,2025-05-23
[8]
多层电子组件及其制造方法 [P]. 
黄贞云 ;
李彩铜 ;
朴宣京 ;
吴智惠 ;
金载喜 ;
朴相铉 .
韩国专利 :CN119694788A ,2025-03-25
[9]
多层电子组件及其制造方法 [P]. 
崔亨综 ;
李有淨 ;
孙宽泳 ;
成佑庆 ;
朴圭植 ;
朴明俊 ;
元光渊 .
中国专利 :CN114649147A ,2022-06-21
[10]
多层电子组件及其制造方法 [P]. 
金东锡 .
韩国专利 :CN119480451A ,2025-02-18