光发射装置及其制造方法和光发射元件

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200510093890.6

申请日：

2005-08-31

公开(公告)号：

CN100433383C

公开(公告)日：

2006-04-19

发明(设计)人：

末広好伸田角浩二

申请人：

申请人地址：

日本爱知县

IPC主分类号：

H01L3300

IPC分类号：

代理机构：

北京集佳知识产权代理有限公司

代理人：

徐谦;杨红梅

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2006-06-07	实质审查的生效	实质审查的生效
2008-11-12	授权	授权
2006-04-19	公开	公开

共 50 条

[1]

光发射元件及其制造方法 [P].

坂田淳一郎 ;

村上雅一 ;

森谷幸司 ;

及川欣聪 ;

浅见勇臣 ;

大谷久 .

中国专利 :CN100483783C ,2005-03-23

[2]

光发射元件、光发射元件阵列和光传导装置 [P].

早川纯一朗 ;

村上朱实 ;

近藤崇 ;

城岸直辉 ;

樱井淳 .

中国专利 :CN107728265A ,2018-02-23

[3]

光发射装置及其制造方法 [P].

坂仓真之 ;

高桥修平 ;

池田佳寿子 ;

二村智哉 .

中国专利 :CN101515571B ,2009-08-26

[4]

光发射装置及其制造方法 [P].

坂仓真之 ;

高桥修平 ;

池田佳寿子 ;

二村智哉 .

中国专利 :CN1684557A ,2005-10-19

[5]

光发射元件 [P].

城岸直辉 ;

樱井淳 ;

村上朱实 ;

近藤崇 ;

早川纯一朗 .

中国专利 :CN107611778A ,2018-01-19

[6]

光发射系统及其光发射装置 [P].

大谷满 .

中国专利 :CN100349391C ,2005-09-28

[7]

光发射设备和用于制造光发射设备的方法 [P].

C·奥尔 ;

B·勒泽纳 ;

B·雅特科斯 ;

F·格拉布迈尔 .

中国专利 :CN109477960A ,2019-03-15

[8]

光发射装置和操作光发射装置的方法 [P].

迈克尔·布兰德尔 ;

塞巴斯蒂安·施蒂格勒 .

德国专利 :CN117501810A ,2024-02-02

[9]

光发射装置、成像系统和发射光调制方法 [P].

请求不公布姓名 .

中国专利 :CN111965664B ,2024-01-23

[10]

光发射装置、成像系统和发射光调制方法 [P].

不公告发明人 .

中国专利 :CN111965664A ,2020-11-20

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