基板清洗方法、处理容器清洗方法及基板处理装置

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201980077095.8

申请日：

2019-11-20

公开(公告)号：

CN113169062A

公开(公告)日：

2021-07-23

发明(设计)人：

池田恭子土桥和也中岛常长关口贤治锦户修一中城将人安武孝洋

申请人：

申请人地址：

日本东京

IPC主分类号：

H01L21304

IPC分类号：

代理机构：

北京品源专利代理有限公司 11332

代理人：

吕琳;朴秀玉

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2021-09-21	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/304 申请日:20191120
2021-07-23	公开	公开

共 50 条

[1]

基板清洗方法、处理容器清洗方法及基板处理装置 [P].

池田恭子 ;

土桥和也 ;

中岛常长 ;

关口贤治 ;

锦户修一 ;

中城将人 ;

安武孝洋 .

日本专利 :CN113169062B ,2024-07-19

[2]

基板处理容器的清洗方法 [P].

山﨑英亮 ;

中村和仁 ;

松泽兴明 ;

松田司 ;

河野有美子 .

中国专利 :CN1717791B ,2006-01-04

[3]

基板清洗装置、基板处理装置、基板清洗方法及基板处理方法 [P].

村地弘美 ;

吉田隆一 ;

西山耕二 ;

门间徹 ;

寒河江力 .

中国专利 :CN107818928A ,2018-03-20

[4]

基板处理装置及基板清洗方法 [P].

芳谷光明 .

中国专利 :CN1240488C ,2004-01-28

[5]

基板清洗装置、基板处理装置及基板清洗方法 [P].

中野央二郎 ;

国泽淳次 .

中国专利 :CN108878314A ,2018-11-23

[6]

基板清洗装置、基板清洗方法及基板处理装置 [P].

深谷孝一 ;

石桥知淳 ;

中野央二郎 .

日本专利 :CN107393846B ,2024-04-09

[7]

基板清洗装置、基板处理装置及基板清洗方法 [P].

中野央二郎 .

日本专利 :CN112289703B ,2025-12-23

[8]

基板清洗装置、基板处理装置及基板清洗方法 [P].

村地弘美 ;

吉田隆一 ;

西山耕二 ;

门间徹 ;

寒河江力 .

中国专利 :CN107818929A ,2018-03-20

[9]

基板清洗装置、基板处理装置及基板清洗方法 [P].

中野央二郎 .

中国专利 :CN112289703A ,2021-01-29

[10]

基板清洗装置、基板处理装置及基板清洗方法 [P].

徐海洋 ;

稻叶充彦 .

日本专利 :CN118943054A ,2024-11-12

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